电子聚焦电场增强等离子体离子注入/沉积基本理论研究
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:11075012
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:48.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:A3003.离子注入及离子束材料改性
- 结题年份:2013
- 批准年份:2010
- 项目状态:已结题
- 起止时间:2011-01-01 至2013-12-31
- 项目参与者:徐有涛; 曲平; 王卓; 庞恩敬; 梁波; 何福顺; 李芬; 顿丹丹; 杨海键;
- 关键词:
项目摘要
申请人提出了一种电子聚焦电场增强等离子体离子注入/沉积新技术,前期研究已发现其毋需额外等离子体产生设备可实施高离子密度的等离子体离子注入;在80mm内注入剂量偏差<2%;同样的注入参数N元素剂量可达传统PIII的1.61倍且半高宽下降27.7%等。本项目拟借助Monte Carlo复合 Particle In Cel算法,深入研究被聚焦的二次电子参与离化的微观作用机理;研究电子聚焦电场下粒子电离微观运动和碰撞机制;研究不同元素粒子的EGD-PIII中离化差异机理;掌握EGD-PIII常用元素的受激状态。项目还提出用偏压金属栅网进行等离子中的离子进行群分,以使PIII兼具束线式注入的优点。项目试图弄清EGD-PIII方法中的微观物理本质,将EGD-PIII用于如Ion-Cut和高陡峭p型或高陡峭n型层、高陡峭度埋层或者浅结层等电子器件领域,具有和明确的应用方向和重要的理论价值。
结项摘要
项目开展了电子聚焦电场增强等离子体离子注入/沉积方法中的等离子体微观离化机理研究。采用Particle In Cell(PIC)的流体计算方法并把蒙特卡罗(Monte Carlo)碰撞的引入对其进行了改进,建立EGD-PIII的自维持模拟系统。掌握了电子聚焦电场增强等离子体离子注入/沉积这种新型注入方法的微观机制、物理本质。以EGD-PIII研究为例,研究等离子体中离子注入过程中离子操控技术。获得EGD-PIII方法的微观离化机制,建立基于微观离化机制的理论指导体系,改善了EGD-PIII的结构,成功实现了均匀注氢,为采用EGD-PIII方法进行Ion-Cut和用于制备高陡峭p型或高陡峭n型层,高陡峭度埋层或者浅结层等电子器件领域的应用做好了准备。通过研究,最终获得电子聚焦电场增强等离子体离子注入/沉积方法中等离子体增强离化等离子体放电的微观指导理论,掌握了电子聚焦电场增强等离子体离子注入/沉积鞘层扩展规律。获得采用栅网和金属环对离子注入路径控制技术手段。项目共发表期刊及会议论文17篇,其中SCI检索文章6篇,影响因子大于3的论文1篇。申请专利1项。培养博士两名、硕士研究生13名,指导本科生毕设12名。
项目成果
期刊论文数量(8)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(9)
专利数量(0)
脉冲磁过滤阴极弧技术制备类金刚石薄膜研究
- DOI:--
- 发表时间:2012
- 期刊:新技术新工艺
- 影响因子:--
- 作者:顿丹丹;DUN D;an(School of Mechanical Engineering;Au
- 通讯作者:Au
增强辉光放电等离子体离子注入的三维PIC/MC模拟
- DOI:--
- 发表时间:2012
- 期刊:Acta Physica Sinica
- 影响因子:1
- 作者:何福顺;李刘合;李芬;顿丹丹;陶婵偲
- 通讯作者:陶婵偲
Transformation of Enhanced Glow Discharge Dynamics in Nitrogen Plasma Immersion
氮等离子体浸没中增强辉光放电动力学的转变
- DOI:--
- 发表时间:2013
- 期刊:IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE
- 影响因子:1.5
- 作者:Penghui Li;Ruizhen Xu;Ricky King-Yu Fu;Paul K Chu
- 通讯作者:Paul K Chu
磁控溅射技术及其发展
- DOI:--
- 发表时间:2011
- 期刊:真空电子技术
- 影响因子:--
- 作者:李芬;朱颖;李刘合;卢求元;朱剑豪
- 通讯作者:朱剑豪
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其他文献
TiAlSiN涂层刀具的发展与应用
- DOI:--
- 发表时间:2014
- 期刊:新工艺新技术
- 影响因子:--
- 作者:朱鹏志;朱颖;李刘合
- 通讯作者:李刘合
Recent Progress in Films Deposition On Interior Surface of Long and Slender Tube
细长管内表面薄膜沉积研究新进展
- DOI:--
- 发表时间:2016
- 期刊:中国表面工程
- 影响因子:--
- 作者:李刘合;许亿
- 通讯作者:许亿
高功率脉冲磁控溅射研究进展
- DOI:--
- 发表时间:2015
- 期刊:原子核物理评论
- 影响因子:--
- 作者:暴一品;李刘合;刘峻曦;张骁
- 通讯作者:张骁
带状真空电弧磁过滤器等离子体分布特性及制备类金刚石膜研究?
- DOI:--
- 发表时间:2016
- 期刊:物理学报
- 影响因子:--
- 作者:李刘合;刘红涛;罗辑;许亿
- 通讯作者:许亿
涂层硬质合金刀具切削钛合金仿真研究
- DOI:--
- 发表时间:2013
- 期刊:机械设计与制造
- 影响因子:--
- 作者:陶真;孙剑飞;李刘合
- 通讯作者:李刘合
其他文献
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