SiGe/Si等平面化真空微电子雪崩击穿电子发射器件研究
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:69676037
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:9.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:F0404.半导体电子器件与集成
- 结题年份:1999
- 批准年份:1996
- 项目状态:已结题
- 起止时间:1997-01-01 至1999-12-31
- 项目参与者:郑海东; 郭梅娟; 郭亮; 何建飞;
- 关键词:
项目摘要
本项目研究并设计了SiGe/Si等平面化异质结雪崩击穿电子发射阵列器件。采用了氮化硅自对准等平面工艺和双离子注入等平面再氧化工艺实现了具有仅为40至60纳米的P(+)接触区低工艺台阶和10纳米的n(+)电子发射区低工艺台阶的等平面化电子发射器件表面。再应用超高真空CVD方法生长SiGe外延层,与n(+)硅电子发射区形成浅异质结。SiGe层厚度为20到30纳米,P型;采用生长过程硼烷掺杂和生长后硼离子注入两种方法形成P型,Ge的组份为0.2到0.4。该浅异质结的雪崩击穿电压为6至15伏,有电子发射现象。本研究交叉了真空微电子器件技术和硅锗异质结技术涉及了同类研究前沿;并移植了自对准工艺和全离子注入等大规律集成电路技术,使研究内容和方法上有一定的新意。
结项摘要
项目成果
期刊论文数量(2)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Si based quasi-planar self-aligned electron emission array
硅基准平面自对准电子发射阵列
- DOI:10.1016/s0169-4332(02)00933-9
- 发表时间:2002-12
- 期刊:Applied Surface Science
- 影响因子:6.7
- 作者:Dazhong Zhu;Jiahua Zhu
- 通讯作者:Jiahua Zhu
DESIGN AND RESEARCH OF QUASI-PLANAR SELF-ALIGNED SILICON AVALANCHE ELECTRON EMMISSION ARRAY
准平面自对准硅雪崩电子发射阵列的设计与研究
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:Journal of Electronics(CHINA)
- 影响因子:--
- 作者:Zhu Dazhong
- 通讯作者:Zhu Dazhong
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其他文献
基于扇形MAGFET同步取样模式的CM
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:《传感技术学报》录用,将由EI收录
- 影响因子:--
- 作者:刘同;朱大中
- 通讯作者:朱大中
扩大感光动态范围的象限光电传感
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:《固体电子学研究与进展》第24卷 第1期,第55~59页,2004年2月,EI收录
- 影响因子:--
- 作者:周鑫;朱大中
- 通讯作者:朱大中
用于X射线传感器的多通道微弱电流采集系统
- DOI:--
- 发表时间:2013
- 期刊:单片机与嵌入式系统应用
- 影响因子:--
- 作者:许超群;孙颖;朱大中
- 通讯作者:朱大中
基于标准CMOS工艺的有源像素单元
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:《压电与声光》第27卷 第4期,第434~437页,2005年4月,EI page one收录
- 影响因子:--
- 作者:周鑫;朱大中;郭维
- 通讯作者:郭维
基于CMOS工艺的双结深CTIA荧光传感器
- DOI:--
- 发表时间:2014
- 期刊:传感技术学报
- 影响因子:--
- 作者:施朝霞;朱大中
- 通讯作者:朱大中
其他文献
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