Precision Motion Stages for Enhancing the Performance of Lithography in Semiconductor Manufacturing
用于增强半导体制造中光刻性能的精密运动平台
基本信息
- 批准号：RGPIN-2018-04704
- 负责人：
- 金额：$ 2.33万
- 依托单位：
- 依托单位国家：加拿大
- 项目类别：Discovery Grants Program - Individual
- 财政年份：2021
- 资助国家：加拿大
- 起止时间：2021-01-01 至 2022-12-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
Control; Manufacturing; Mechatronics
控制;制造业;机电一体化
项目成果
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