ANALYSE DES PROCÉDÉS DE GRAVURE POUR LES DISPOSITIFS OPTOÉLECTRONIQUES

分析光学器件凹版加工过程

基本信息

  • 批准号:
    528817-2018
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.82万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    加拿大
  • 项目类别:
    Engage Grants Program
  • 财政年份:
    2018
  • 资助国家:
    加拿大
  • 起止时间:
    2018-01-01 至 2019-12-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

Aeponyx développe et fabrique des puces optoélectroniques vouées à l'infonuagique. La fabrication de ces**puces repose sur les procédés de microfabrication utilisés dans l'industrie des MEMS. Ces procédés doivent**être parfaitement contrôlés pour que les puces soient fonctionnelles.**Dans ce projet de recherche collaboratif, nous proposons d'analyser les procédés de gravure plasma nécessaires**à la microfabrication des puces produites par Aeponyx. Plus précisément, nous nous intéresserons aux procédés**de gravure des diélectriques, en étudiant les sources plasmas les plus pertinentes pour contrôler les procédés de**gravure. En nous basant sur une revue de la littérature des mécanismes de gravure des matériaux diélectriques,**nous mettrons en place un plan d'expériences que nous réaliserons sur différents équipements de gravure, afin**de déterminer les avantages et inconvénients de chaque type d'équipement de gravure pour l'application visée.**Ainsi, nous identifierons les réacteurs de gravure les plus performants pour permettre à Aeponyx de produire**des puces optimales. Ces résultats sont d'une importance capitale pour Aeponyx car le contrôle des procédés**doit être quasi parfait -moins de 5nm de tolérance-, et car toutes les machines de gravure ne sont pas capables**d'atteindre ces performances. Il est donc essentiel avant d'investir dans un équipement de s'assurer de bien**comprendre son fonctionnement et vérifier que l'équipement atteindra la performance visée.**La compagnie Aeponyx bénéficiera donc fortement des retombées de ce projet de recherche, et par la même le**Canada, en renforçant son expertise et ses capacités de production en dispositifs optoélectroniques innovants.**Ces dispositif ont par ailleurs la capacité de réduire la consommation des centres de données, et donc de réduire**l'emprunte écologique globale, ce à quoi s'est engagé le Candaa dans les accords de Paris.
MEMS 的制造过程与 MEMS 工业中的微加工过程有关。功能。**在合作研究项目中,我们提出了凹版等离子凹版印刷所需程序的分析仪**à Aeponyx 的深褐色产品的微加工。凹版印刷过程控制的等离子源,这是决定凹版印刷设备类型的优势和不便之处。**此外,凹版印刷的性能和性能是最理想的。 'une important Capitale pour aeponyx car le这是投资的关键要素,是确保您了解其功能的设备La Performance visée *Ces dispositif ont par.捐助者中心的完善能力以及全球生态发展的能力,可以与巴黎协定中的加拿大合作。

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

Darnon, Maxime其他文献

Impact of low-k structure and porosity on etch processes
  • DOI:
    10.1116/1.4770505
  • 发表时间:
    2013-01-01
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.4
  • 作者:
    Darnon, Maxime;Casiez, Nicolas;Licitra, Christophe
  • 通讯作者:
    Licitra, Christophe
Atomic-scale silicon etching control using pulsed Cl2 plasma
  • DOI:
    10.1116/1.4768717
  • 发表时间:
    2013-01-01
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.4
  • 作者:
    Petit-Etienne, Camille;Darnon, Maxime;Banna, Samer
  • 通讯作者:
    Banna, Samer
Miniaturization of InGaP/InGaAs/Ge solar cells for micro-concentrator photovoltaics
  • DOI:
    10.1002/pip.3421
  • 发表时间:
    2021-05-06
  • 期刊:
  • 影响因子:
    6.7
  • 作者:
    Albert, Pierre;Jaouad, Abdelatif;Darnon, Maxime
  • 通讯作者:
    Darnon, Maxime
Silicon etching in a pulsed HBr/O2 plasma. II. Pattern transfer
  • DOI:
    10.1116/1.4917231
  • 发表时间:
    2015-05-01
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.4
  • 作者:
    Haass, Moritz;Darnon, Maxime;Joubert, Olivier
  • 通讯作者:
    Joubert, Olivier
Analysis of water adsorption in plasma-damaged porous low-k dielectric by controlled-atmosphere infrared spectroscopy
  • DOI:
    10.1116/1.4827252
  • 发表时间:
    2013-11-01
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.4
  • 作者:
    Darnon, Maxime;Chevolleau, Thierry;Zocco, Julien
  • 通讯作者:
    Zocco, Julien

Darnon, Maxime的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

{{ truncateString('Darnon, Maxime', 18)}}的其他基金

DAMAGELESS ETCHING PROCESSES
无损蚀刻工艺
  • 批准号:
    RGPIN-2016-03691
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 1.82万
  • 项目类别:
    Discovery Grants Program - Individual
High voltage photo transducers
高压光电传感器
  • 批准号:
    567013-2021
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 1.82万
  • 项目类别:
    Alliance Grants
DAMAGELESS ETCHING PROCESSES
无损蚀刻工艺
  • 批准号:
    RGPIN-2016-03691
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 1.82万
  • 项目类别:
    Discovery Grants Program - Individual
Etude et développement d'une solution à faible empreinte carbone pour les stations de télécommunication (SAFE TELECOM)
解决方案的研究和开发以及电信通信站的可行实施 (SAFE TELECOM)
  • 批准号:
    558371-2020
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 1.82万
  • 项目类别:
    Alliance Grants
Etude et développement d'une solution à faible empreinte carbone pour les stations de télécommunication (SAFE TELECOM)
解决方案的研究和开发以及电信通信站的可行实施 (SAFE TELECOM)
  • 批准号:
    558371-2020
  • 财政年份:
    2020
  • 资助金额:
    $ 1.82万
  • 项目类别:
    Alliance Grants
DAMAGELESS ETCHING PROCESSES
无损蚀刻工艺
  • 批准号:
    RGPIN-2016-03691
  • 财政年份:
    2020
  • 资助金额:
    $ 1.82万
  • 项目类别:
    Discovery Grants Program - Individual
DAMAGELESS ETCHING PROCESSES
无损蚀刻工艺
  • 批准号:
    RGPIN-2016-03691
  • 财政年份:
    2019
  • 资助金额:
    $ 1.82万
  • 项目类别:
    Discovery Grants Program - Individual
DAMAGELESS ETCHING PROCESSES
无损蚀刻工艺
  • 批准号:
    RGPIN-2016-03691
  • 财政年份:
    2018
  • 资助金额:
    $ 1.82万
  • 项目类别:
    Discovery Grants Program - Individual
DAMAGELESS ETCHING PROCESSES
无损蚀刻工艺
  • 批准号:
    RGPIN-2016-03691
  • 财政年份:
    2017
  • 资助金额:
    $ 1.82万
  • 项目类别:
    Discovery Grants Program - Individual
Antireflective coatings for hybrid thermal/CPV
用于混合热/CPV 的抗反射涂层
  • 批准号:
    507222-2016
  • 财政年份:
    2016
  • 资助金额:
    $ 1.82万
  • 项目类别:
    Engage Grants Program

相似国自然基金

低共熔溶剂(DES)体系与木质纤维素生物质分子间相互作用研究
  • 批准号:
  • 批准年份:
    2022
  • 资助金额:
    53 万元
  • 项目类别:
    面上项目
基于DNA纳米技术的模块化DES加密系统研究
  • 批准号:
  • 批准年份:
    2022
  • 资助金额:
    54 万元
  • 项目类别:
    面上项目
基于水热熔盐-多元羧酸DES协同预处理毛竹细胞壁组分溶出规律及化学键解离机制研究
  • 批准号:
  • 批准年份:
    2022
  • 资助金额:
    30 万元
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
构筑温敏相转变B-L双酸DES催化体系用于高效催化合成己内酰胺的研究
  • 批准号:
  • 批准年份:
    2022
  • 资助金额:
    54 万元
  • 项目类别:
    面上项目
基于CO2捕集的DES设计和筛选及其对CO2吸收机理研究
  • 批准号:
    52206220
  • 批准年份:
    2022
  • 资助金额:
    30 万元
  • 项目类别:
    青年科学基金项目

相似海外基金

Adaptation des procédés de micro-impression du verre pour une production industrielle à grande échel
适应大阿切尔工业生产的微印象工艺
  • 批准号:
    572114-2022
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 1.82万
  • 项目类别:
    University Undergraduate Student Research Awards
Développement de procédés d'amélioration des fondations routières par calcification chimique et biologique
钙化化学和生物学基础研究进展进展
  • 批准号:
    RGPIN-2022-04285
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 1.82万
  • 项目类别:
    Discovery Grants Program - Individual
Procédés de tannages écoresponsables des peaux de phoques et de poissons
鞣革过程和皮松的责任
  • 批准号:
    CCB21-2021-00231
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 1.82万
  • 项目类别:
    Applied Research and Technology Partnership Grants
Développement de procédés d'élimination des contaminants critiques contenus dans le lixiviat issu du recyclage des batteries lithium-ion
锂离子电池回收利用中污染物消除批评的进展进展
  • 批准号:
    566477-2021
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 1.82万
  • 项目类别:
    Applied Research and Development Grants - Level 2
Procédé complet de valorisation des piles usagées et des déchets électroniques
堆使用和电子设备的完整评估过程
  • 批准号:
    576147-2022
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 1.82万
  • 项目类别:
    Alliance Grants
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了