Current-enhanced CVD and annealing of multilayer graphene for reduction of resistance

多层石墨烯的电流增强 CVD 和退火以降低电阻

基本信息

  • 批准号:
    26420319
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.25万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2014
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2014-04-01 至 2018-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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专利数量(0)
Improvement of multilayer graphene (MLG) / n-GaN Schottky diode properties fabricated with transfer-free deposition of MLG on n-GaN by solid-phase reaction
通过固相反应在 n-GaN 上无转移沉积 MLG 来改善多层石墨烯 (MLG)/n-GaN 肖特基二极管的性能
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Uddin Md. Sahab;Ueno Kazuyoshi
  • 通讯作者:
    Ueno Kazuyoshi
Improvement of multilayer graphene crystallinity by solid-phase precipitation with current stress application during annealing
退火过程中施加电流应力,通过固相沉淀改善多层石墨烯结晶度
  • DOI:
    10.7567/jjap.55.06jh02
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Md. S. Uddin; H. Ichikawa; S. Sano; K. Ueno
  • 通讯作者:
    K. Ueno
芝浦工業大学 電子工学科 ナノエレクトロニクス研究室ホームページ
芝浦工业大学电子工程系纳米电子实验室主页
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Effect of current stress during thermal CVD of multilayer graphene on cobalt catalytic layer
多层石墨烯热CVD过程中电流应力对钴催化层的影响
  • DOI:
    10.7567/jjap.55.04ec13
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    K. Ueno; H. Ichikawa; T. Uchida
  • 通讯作者:
    T. Uchida
Effect of current stress during thermal CVD of multilayer graphene on cobalt catalytic layer
多层石墨烯热CVD过程中电流应力对钴催化层的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Hiroyasu Ichikawa; Takaki Uchida; Kazuyoshi Ueno
  • 通讯作者:
    Kazuyoshi Ueno
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A novel graphene barrier against moisture by multiple stacking large-grain graphene
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  • 发表时间:
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  • 期刊:
  • 影响因子:
    4.6
  • 作者:
    Gomasang Ploybussara;Kawahara Kenji;Yasuraoka Kenta;Maruyama Mina;Ago Hiroki;Okada Susumu;Ueno Kazuyoshi
  • 通讯作者:
    Ueno Kazuyoshi
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  • 作者:
    Gomasang Ploybussara;Kawahara Kenji;Yasuraoka Kenta;Maruyama Mina;Ago Hiroki;Okada Susumu;Ueno Kazuyoshi
  • 通讯作者:
    Ueno Kazuyoshi
Moisture barrier properties of single-layer graphene deposited on Cu films for Cu metallization
用于铜金属化的铜膜上沉积的单层石墨烯的防潮性能
  • DOI:
    10.7567/jjap.57.04fc08
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Gomasang Ploybussara;Abe Takumi;Kawahara Kenji;Wasai Yoko;Nabatova;Cuong Nguyen Thanh;Ago Hiroki;Okada Susumu;Ueno Kazuyoshi
  • 通讯作者:
    Ueno Kazuyoshi
Moisture barrier properties of single-layer graphene deposited on Cu films for Cu metallization
用于铜金属化的铜膜上沉积的单层石墨烯的防潮性能
  • DOI:
    10.7567/jjap.57.04fc08
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Gomasang Ploybussara;Abe Takumi;Kawahara Kenji;Wasai Yoko;Nabatova;Cuong Nguyen Thanh;Ago Hiroki;Okada Susumu;Ueno Kazuyoshi
  • 通讯作者:
    Ueno Kazuyoshi
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    2023
  • 期刊:
  • 影响因子:
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    Nakajima Shun;Wasai Yoko;Kawahara Kenji;Nabatova;Gomasang Ploybussara;Ago Hiroki;Akinaga Hiroyuki;Ueno Kazuyoshi
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    2018
  • 资助金额:
    $ 2.25万
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