Silicene surrounded by oxide- Development using self-limitation of oxidation and oxidation-induced strain

被氧化物包围的硅烯——利用氧化自限制和氧化诱导应变进行开发

基本信息

批准号：
16H05969
负责人：
Ogawa Shuichi
金额：
$ 12.06万
依托单位：
Tohoku University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
财政年份：
2016
资助国家：
日本
起止时间：
2016-04-01 至 2019-03-31
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-16H05969/
关键词：
熱酸化シリセン酸化誘起歪み点欠陥リアルタイム光電子分光熱酸化プロセス酸化反応測度論歪み誘起反応工学半導体超微細化電子・電気材料酸化反応速度論歪み計測表面・界面物性酸化反応自己停止シリコン熱酸化歪み誘起反応制御

项目摘要

项目成果

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专利数量（0）

O2 pressure dependence of initial oxidation kinetics on Ni(111) surfaces

Ni(111) 表面初始氧化动力学的 O2 压力依赖性

DOI：
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
S. Ogawa; R. Taga; T. Ozaki; A. Yoshigoe;Y. Takakuwa
通讯作者：
Y. Takakuwa

Photo-induced enhancement of oxidation on p- and n-type Si(001) surfaces

p 型和 n 型 Si(001) 表面的光诱导氧化增强

DOI：
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
Y. Sekihata; S. Ogawa; A. Yoshigoe; R. Taga; A. Klyushin; E. Carbonio; A. Knop;Y. Takakuwa
通讯作者：
Y. Takakuwa

酸化Ni(111)表面の還元過程：真空およびH2中加熱の比較

Ni(111)氧化物表面还原过程：真空加热与氢气加热比较

DOI：
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
多賀稜;小川修一;尾崎司;吉田光;吉越章隆;髙桑雄二
通讯作者：
髙桑雄二

O2 Pressure Dependence of SiO2/Si Interfacial Oxidation Rate Studied by Real-time Photoelectron Spectroscopy

实时光电子能谱研究SiO2/Si界面氧化速率对O2压力的依赖性

DOI：
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
0
作者：
S. Ogawa; A. Yoshigoe; S. Ishidzuka; Y. Takakuwa
通讯作者：
Y. Takakuwa

Detection of molecular oxygen adsorbate during room-temperature oxidation of Si(100)2×1 surface: In situ synchrotron radiation photoemission study

Si(100)2×1表面室温氧化过程中分子氧吸附物的检测：原位同步辐射光电子研究

DOI：
10.7567/jjap.55.100307
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
1.5
作者：
A. Yoshigoe; Y. Yamada; R. Taga; S. Ogawa; Y. Takakuwa
通讯作者：
Y. Takakuwa

DOI：
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Ogawa Shuichi其他文献

Chemical structural analysis of diamondlike carbon films: I. Surface growth model

类金刚石碳膜的化学结构分析：一、表面生长模型

DOI：
10.1016/j.susc.2017.10.013
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
1.9
作者：
Takabayashi Susumu;Jesko Radek;Shinohara Masanori;Hayashi Hiroyuki;Sugimoto Rintaro;Ogawa Shuichi;Takakuwa Yuji
通讯作者：
Takakuwa Yuji

Roles of strain and carrier in silicon oxidation

应变和载流子在硅氧化中的作用

DOI：
10.35848/1347-4065/ab82a9
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
1.5
作者：
Ogawa Shuichi;YOSHIGOE Akitaka;Tang Jiayi;Sekihata Yuki;Takakuwa Yuji
通讯作者：
Takakuwa Yuji

Roles of strain and carrier in silicon oxidation

应变和载流子在硅氧化中的作用

DOI：
10.35848/1347-4065/ab82a9
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
1.5
作者：
Ogawa Shuichi;YOSHIGOE Akitaka;Tang Jiayi;Sekihata Yuki;Takakuwa Yuji
通讯作者：
Takakuwa Yuji

Roles of strain and carrier in silicon oxidation

应变和载流子在硅氧化中的作用

DOI：
10.35848/1347-4065/ab82a9
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
1.5
作者：
Ogawa Shuichi;YOSHIGOE Akitaka;Tang Jiayi;Sekihata Yuki;Takakuwa Yuji
通讯作者：
Takakuwa Yuji

Synthesis and characterization of potassium-doped multilayer graphene prepared by wet process using potassium hydroxide

氢氧化钾湿法制备钾掺杂多层石墨烯的合成与表征

DOI：
10.1088/2632-959x/ac1454
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
3
作者：
Masuzawa Tomoaki;Okigawa Yuki;Ogawa Shuichi;Takakuwa Yuji;Hatakeyama Kazuto;Yamada Takatoshi
通讯作者：
Yamada Takatoshi