Study on control of plasma oxidation at an atomic level
原子水平等离子体氧化控制研究
基本信息
- 批准号：16K04994
- 负责人：
- 金额：$ 3.16万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2016
- 资助国家：日本
- 起止时间：2016-04-01 至 2019-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
炭素化水素プラズマによる堆積反応の赤外吸収分光計測
碳酸氢等离子体沉积反应的红外吸收光谱测量
- DOI：
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：篠原 正典;猪原 武士;柳生 義人;大島多美子;川崎 仁晴
- 通讯作者：川崎 仁晴
49.Infrared spectroscopic study on hydrogenation process of Si(100) surface during hydrogen plasma exposure
49.氢等离子体暴露过程中Si(100)表面氢化过程的红外光谱研究
- DOI：10.1109/tps.2016.2595599
- 发表时间：2016
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Masanori Shinohara; Naoki Maruno; Yoshiki Takami; Susumu Takabayashi; Yoshinobu Matsuda
- 通讯作者：Yoshinobu Matsuda
Consideration of peeling-off of amorphous carbon film, from changes in chemical states of the film during its deposition
从沉积过程中薄膜化学状态的变化考虑非晶碳薄膜的剥离
- DOI：
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：M. Shinohara; T. Ihara; Y. Yagyu; T. Ohshima;H. Kawasaki
- 通讯作者：H. Kawasaki
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SHINOHARA MASANORI其他文献
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