Highly Oriented Ceramic Coatings by Chemical Vapor Deposition under Intense Laser Field

强激光场下化学气相沉积高取向陶瓷涂层

基本信息

  • 批准号:
    25709069
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 5.41万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
  • 财政年份:
    2013
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2013-04-01 至 2016-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Effects of laser power on the growth of polycrystalline AlN films by laser chemical vapor deposition method
激光功率对激光化学气相沉积法生长多晶AlN薄膜的影响
  • DOI:
    10.1016/j.surfcoat.2013.04.043
  • 发表时间:
    2013
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Y. You;A. Ito;R. Tu;T. Goto
  • 通讯作者:
    T. Goto
A feather-like structure of β-Al2TiO5 film prepared by laser chemical vapor deposition.
采用激光化学气相沉积法制备的羽毛状结构的β-Al2TiO5薄膜。
Transparent anatase and rutile TiO2 films grown by laser chemical vapor deposition
  • DOI:
    10.1016/j.tsf.2013.11.089
  • 发表时间:
    2014-01
  • 期刊:
  • 影响因子:
    2.1
  • 作者:
    A. Ito;Takahiro Sato;T. Goto
  • 通讯作者:
    A. Ito;Takahiro Sato;T. Goto
Preparation of (100) CeO2 and (110) YBa2Cu3O7-δ films by laser chemical vapor deposition
激光化学气相沉积法制备(100)CeO2和(110)YBa2Cu3O7-δ薄膜
  • DOI:
    10.1016/j.ceramint.2013.06.041
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    5.2
  • 作者:
    P. Zhao;A. Ito;T. Goto
  • 通讯作者:
    T. Goto
レーザー CVD による β-SiC 膜の高速合成と成膜雰囲気の影響
激光CVD高速合成β-SiC薄膜及成膜气氛的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    橋本龍真;伊藤暁彦;後藤孝
  • 通讯作者:
    後藤孝
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  • 通讯作者:
    野口泉,山口高志,岩崎 綾,松本利恵,堀尾拓矢,堀江洋佑,浴口智行,桑尾房子,惠花孝昭,松田和秀

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  • 资助金额:
    $ 5.41万
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  • 批准号:
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  • 资助金额:
    $ 5.41万
  • 项目类别:
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