Control and evaluation of conformation of graphene in nano-scale by templating CVD method

模板CVD法对纳米级石墨烯构象的控制与评价

• 批准号: 17K05011
• 负责人: SHUKICHI TANAKA
• 金额: $ 3.08万
• 依托单位: National Institute of Information and Communications Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2017
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2017-04-01 至 2020-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-17K05011/
• 关键词: ナノカーボン; CVD; SPM; 基板上反応; ファインプロセス; ナノ材料; 走査プローブ顕微鏡; グラフェンナノ構造

项目成果

パターン加工された金属薄膜を用いたグラフェンの作製（II)

利用图案化金属薄膜制备石墨烯（II）

• 发表时间: 2020
• 作者: Yuta Nagatomo;Toshiki Kataoka;Hiroyuki Sakaue;Yukihiro Tominari;Shukichi Tanaka;Hitoshi Suzuki;長友裕太，坂上弘之，富成征弘，田中秀吉，佐藤仁，鈴木仁;長友裕太，片岡俊樹，坂上弘之，富成征弘，田中秀吉，鈴木仁;富成征弘，田中秀吉，鈴木仁
• 通讯作者: 富成征弘，田中秀吉，鈴木仁

金および銅基板上におけるグラフェンナノメッシュのボトムアップ合成

金和铜基底上石墨烯纳米网的自下而上合成

• 发表时间: 2020
• 作者: Yuta Nagatomo;Toshiki Kataoka;Hiroyuki Sakaue;Yukihiro Tominari;Shukichi Tanaka;Hitoshi Suzuki;長友裕太，坂上弘之，富成征弘，田中秀吉，佐藤仁，鈴木仁;長友裕太，片岡俊樹，坂上弘之，富成征弘，田中秀吉，鈴木仁
• 通讯作者: 長友裕太，片岡俊樹，坂上弘之，富成征弘，田中秀吉，鈴木仁

パターン加工された金属薄膜を用いたグラフェンの作製

使用图案化金属薄膜制造石墨烯

• 发表时间: 2019
• 作者: Yuta Nagatomo;Toshiki Kataoka;Hiroyuki Sakaue;Yukihiro Tominari;Shukichi Tanaka;Hitoshi Suzuki;長友裕太，坂上弘之，富成征弘，田中秀吉，佐藤仁，鈴木仁;長友裕太，片岡俊樹，坂上弘之，富成征弘，田中秀吉，鈴木仁;富成征弘，田中秀吉，鈴木仁;富成征弘，田中秀吉，鈴木仁
• 通讯作者: 富成征弘，田中秀吉，鈴木仁

Graphene growth using Patterned metal thin films on insulating substrates

在绝缘基板上使用图案化金属薄膜生长石墨烯

• 发表时间: 2019
• 作者: S. Tanaka;Y. Tominari;H. Suzuki
• 通讯作者: H. Suzuki

Mesh structures formed by hexabromotriphenylene on Cu(111) and Au(111)

六溴苯并菲在 Cu(111) 和 Au(111) 上形成的网状结构

• 发表时间: 2019
• 作者: Y. Nagatomo;T. Kataoka;H. Sakaue;Y. Tominari;S. Tanaka;H. Suzuki
• 通讯作者: H. Suzuki