Universal gate stack for 2D layered channel
适用于 2D 分层沟道的通用栅极堆叠
基本信息
- 批准号:16H04343
- 负责人:
- 金额:$ 10.82万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份:2016
- 资助国家:日本
- 起止时间:2016-04-01 至 2019-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
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Graphene field-effect transistor application-electric band structure of graphene in transistor structure extracted from quantum capacitance
石墨烯场效应晶体管应用——从量子电容中提取石墨烯在晶体管结构中的电带结构
- DOI:10.1557/jmr.2016.366
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T. Gyakushi;Y. Asai;A. Tsurumaki-Fukuchi;M. Arita;Y. Takahashi;Nagashio Kosuke
- 通讯作者:Nagashio Kosuke
Band tail interface states and quantum capacitance in a monolayer molybdenum disulfide field-effect-transistor
- DOI:10.1088/1361-6463/aaa58c
- 发表时间:2018-02-14
- 期刊:
- 影响因子:3.4
- 作者:Fang, Nan;Nagashio, Kosuke
- 通讯作者:Nagashio, Kosuke
"Interface engineerign for 2D electronics",
“二维电子学接口工程”,
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:M. Arita;A. Tsurumaki-Fukuchi;Y. Takahashi;Z. Wei;S. Muraoka;S. Ito;S. Yoneda;K. Nagashio,
- 通讯作者:K. Nagashio,
2次元原子層半導体における層状ヘテロ界面の理解と制御
二维原子层半导体层状异质界面的理解和控制
- DOI:
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:M. Arita;A. Tsurumaki-Fukuchi;Y. Takahashi;K. Nagashio;長汐晃輔
- 通讯作者:長汐晃輔
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Nagashio Kosuke其他文献
電子線ホログラフィーによる機能性材料の応用解析
利用电子束全息技术对功能材料进行应用分析
- DOI:
- 发表时间:
2023 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Sato Yuichiro;Nishimura Tomonori;Duanfei Dong;Ueno Keiji;Shinokita Keisuke;Matsuda Kazunari;Nagashio Kosuke;N. Murakami;山本和生 - 通讯作者:
山本和生
金属電極とのバリアハイトを考慮した極薄h-BNの絶縁性評価
考虑势垒高度的金属电极超薄h-BN绝缘评估
- DOI:
- 发表时间:
2017 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Hattori Yoshiaki;Taniguchi Takashi;Watanabe Kenji;Nagashio Kosuke;Y. Hattori;Y. Hattori;服部吉晃,谷口尚,渡邉健司,長汐晃輔 - 通讯作者:
服部吉晃,谷口尚,渡邉健司,長汐晃輔
ドデカボレート-グルコース複合体の合成とホウ中性子補足療法への応用
十二硼酸-葡萄糖络合物的合成及其在硼中子补充治疗中的应用
- DOI:
- 发表时间:
2022 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Maruyama Mina;Nagashio Kosuke;Okada Susumu;桑田淳司・山神将大・森原 聡・藤本卓也・金平典之・道上宏之・高口 豊・田嶋智之 - 通讯作者:
桑田淳司・山神将大・森原 聡・藤本卓也・金平典之・道上宏之・高口 豊・田嶋智之
Layered materials for electronics
电子器件用层状材料
- DOI:
- 发表时间:
2018 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Hattori Yoshiaki;Taniguchi Takashi;Watanabe Kenji;Nagashio Kosuke;Y. Hattori - 通讯作者:
Y. Hattori
"Two-dimensional tunnel FET"
“二维隧道FET”
- DOI:
- 发表时间:
2021 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Matsuoka Ryota;Toyoda Ryojun;Shiotsuki Ryo;Fukui Naoya;Wada Keisuke;Maeda Hiroaki;Sakamoto Ryota;Sasaki Sono;Masunaga Hiroyasu;Nagashio Kosuke;Nishihara Hiroshi;K. Nagashio;K. Nagashio - 通讯作者:
K. Nagashio
Nagashio Kosuke的其他文献
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{{ truncateString('Nagashio Kosuke', 18)}}的其他基金
Demonstration of piezoelectric properties of novel 2D materials toward energy harvesting
展示新型二维材料在能量收集方面的压电特性
- 批准号:
19K21956 - 财政年份:2019
- 资助金额:
$ 10.82万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
Direct growth of graphene on h-BN using the Cu vapor
使用 Cu 蒸气在 h-BN 上直接生长石墨烯
- 批准号:
16K14446 - 财政年份:2016
- 资助金额:
$ 10.82万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
Improvement of current gain for graphene-base hot electron transistors
石墨烯基热电子晶体管电流增益的改进
- 批准号:
26630121 - 财政年份:2014
- 资助金额:
$ 10.82万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
相似海外基金
SnSの欠陥化学の探究と薄膜トランジスタへの展開
SnS缺陷化学探索及其在薄膜晶体管中的应用
- 批准号:
23K23431 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 10.82万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
真空光トランジスタの創成と超高周波電磁波発生
真空光电晶体管的制作和超高频电磁波的产生
- 批准号:
24H00319 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 10.82万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
シリコンスピン電界効果トランジスタの高性能化を実現する低界面粗さ構造の創製
创建低界面粗糙度结构,提高硅自旋场效应晶体管的性能
- 批准号:
24K17326 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 10.82万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
強誘電・反強誘電体トランジスタを用いたリアルタイム学習ハードウェアの基盤構築
使用铁电和反铁电晶体管为实时学习硬件奠定基础
- 批准号:
23K20951 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 10.82万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
高効率かつ高信頼性の縦型GaN接合型電界効果トランジスタの実現
高效可靠垂直GaN结型场效应晶体管的实现
- 批准号:
24KJ1270 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 10.82万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows