Quantification of electrical properties of defects in semiconductor crystals from a luminescence image

从发光图像量化半导体晶体缺陷的电学特性

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Solution Growth of SiC from the Crucible Bottom with Dipping under Unsaturation State of Carbon in Solvent
碳不饱和状态下溶剂浸渍坩埚底部固溶生长SiC
  • DOI:
    10.4028/www.scientific.net/msf.924.51
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Taishi Toshinori;Takahashi Masaru;Tsuchimoto Naomichi;Suzuki Koki;Hyun Koang Yong
  • 通讯作者:
    Hyun Koang Yong
Fabrication of BaSi2 thin films capped with amorphous Si using a single evaporation source
  • DOI:
    10.1016/j.tsf.2017.06.055
  • 发表时间:
    2017-08-31
  • 期刊:
  • 影响因子:
    2.1
  • 作者:
    Hara, Kosuke O.;Cham Thi Trinh;Usami, Noritaka
  • 通讯作者:
    Usami, Noritaka
溶質供給源の形状を変化させたCr単一溶媒でのSiC溶液成長
具有不同溶质源形状的 Cr 单一溶剂中 SiC 溶液的生长
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    鈴木皓己;太子敏則
  • 通讯作者:
    太子敏則
Formation of SnS/BaSi2 Heterojunction by Sequential Thermal Evaporation toward Solar Cell Applications
通过顺序热蒸发形成 SnS/BaSi2 异质结,用于太阳能电池应用
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Hara;K. O.;Arimoto;K.;Yamanaka;J.;and Nakagawa;K.
  • 通讯作者:
    K.
Adaptive mapping for quick material evaluation
用于快速材料评估的自适应映射
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Kentaro Kutsukake;Ryota Kikuchi;Koji Shimoyama;Kenichi Inoue
  • 通讯作者:
    Kenichi Inoue
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改进退火工艺以抑制太阳能电池用多晶硅吸杂过程中缺陷的产生
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  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Osada Keiichi;Kutsukake Kentaro;Yamamoto Jun;Yamashita Shigeo;Kodera Takashi;Nagai Yuta;Horikawa Tomoyuki;Matsui Kota;Takeuchi Ichiro;Ujihara Toru;謝浩然
  • 通讯作者:
    謝浩然
Geometrical design of a crystal growth system guided by a machine learning algorithm
由机器学习算法指导的晶体生长系统的几何设计
  • DOI:
    10.1039/d1ce00106j
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    3.1
  • 作者:
    Yu Wancheng;Zhu Can;Tsunooka Yosuke;Huang Wei;Dang Yifan;Kutsukake Kentaro;Harada Shunta;Tagawa Miho;Ujihara Toru
  • 通讯作者:
    Ujihara Toru
Dependence of substrate work function on the energy-level alignment at organic?organic heterojunction interface
基底功函数对有机异质结界面能级排列的依赖性
  • DOI:
    10.7567/1347-4065/aaffbf
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Foggiatto Alexandre L.;Suga Hiroki;Takeichi Yasuo;Ono Kanta;Takahashi Yoshio;Kutsukake Kentaro;Ueba Takahiro;Kera Satoshi;Sakurai Takeaki
  • 通讯作者:
    Sakurai Takeaki
鉄鋼材料のライフサイクル価値を考慮した LCA 手法の開発
考虑钢材生命周期价值的LCA方法开发
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Foggiatto Alexandre L.;Takeichi Yasuo;Ono Kanta;Suga Hiroki;Takahashi Yoshio;Fusella Michael A.;Dull Jordan T.;Rand Barry P.;Kutsukake Kentaro;Sakurai Takeaki;醍醐市朗
  • 通讯作者:
    醍醐市朗

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  • 期刊:
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  • 通讯作者:
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