New sputter deposition process for hydroxide thin films using water vapor injection
使用水蒸气注入的氢氧化物薄膜新溅射沉积工艺
基本信息
- 批准号：16K06788
- 负责人：
- 金额：$ 3.08万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2016
- 资助国家：日本
- 起止时间：2016-04-01 至 2019-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Metallic mode reactive sputtering of Ni oxide thin films and their electrochromic properties
Ni氧化物薄膜的金属模式反应溅射及其电致变色性能
- DOI：
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Yuki Yokoiwa;Yoshio Abe;Midori Kawamura;Kyung Ho Kim;Takayuki Kiba
- 通讯作者：Takayuki Kiba
Reactive sputter deposition of nickel oxide thin films at liquid nitrogen temperature
液氮温度下反应溅射沉积氧化镍薄膜
- DOI：10.7567/jjap.56.088004
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：1.5
- 作者：Yoshio Abe;Shun Yamauchi;Midori Kawamura;Kyung Ho Kim;Takayuki Kiba;Akira Narai
- 通讯作者：Akira Narai
Investigation of target state by plasma emission and target voltage measurements for reactive sputtering of Ni oxide thin films with water vapor injection
通过等离子体发射和水蒸气注入反应溅射镍氧化物薄膜的靶电压测量来研究靶状态
- DOI：
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Yuki Yokoiwa;Yoshio Abe;Midori Kawamura;Kyung Ho Kim;Takayuki Kiba
- 通讯作者：Takayuki Kiba
水蒸気スパッタ法におけるターゲット状態の制御と酸化ニッケル薄膜の作製
水蒸气溅射法靶材条件的控制及氧化镍薄膜的制备
- DOI：
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：横岩佑城;阿部良夫;川村みどり;金敬鎬;木場隆之
- 通讯作者：木場隆之
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池田賢一
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