Novel development of ring-shaped hollow magnetized discharge under neo-magnetic field configuration for low-pressure high-density uniform plasma source

新磁场配置下环形空心磁化放电低压高密度均匀等离子体源的新进展

基本信息

批准号：
16K05634
负责人：
Yasunori Ohtsu
金额：
$ 3万
依托单位：
Saga University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2016
资助国家：
日本
起止时间：
2016-04-01 至 2019-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（0）

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科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

プラズマ処理装置

等离子处理设备

DOI：
发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
0
作者：
通讯作者：

プラズマエレクトロニクス研究室(佐賀大学）

等离子电子实验室（佐贺大学）

DOI：
发表时间：
期刊：
影响因子：
0
作者：
通讯作者：

West Virginia Uuniversity(米国)

西弗吉尼亚大学（美国）

DOI：
发表时间：
期刊：
影响因子：
0
作者：
通讯作者：

Performance of a Gyratory Square-Shaped Capacitive Radio Frequency Discharge Plasma Sputtering Source for Materials Processing

DOI：
10.1007/s11090-017-9847-1
发表时间：
2017-09
期刊：
Plasma Chemistry and Plasma Processing
影响因子：
3.6
作者：
M. Hossain;Y. Ohtsu;T. Tabaru
通讯作者：
M. Hossain;Y. Ohtsu;T. Tabaru

プラズマエレクトロニクス研究室

等离子电子实验室

DOI：
发表时间：
期刊：
影响因子：
0
作者：
通讯作者：

DOI：
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作者：
Yasunori Ohtsu;Masaya Takasaki and Julian Schulze
通讯作者：
Masaya Takasaki and Julian Schulze

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影响因子：
0
作者：
Yasunori Ohtsu;Rei Tanaka and Takahiro Nakashima
通讯作者：
Rei Tanaka and Takahiro Nakashima

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