Gas permeable mold in nanoimprint lithography

纳米压印光刻中的透气模具

基本信息

  • 批准号：
    16K04920
  • 负责人：
    TAKEI SATOSHI
  • 金额：
    $ 3.16万
  • 依托单位：
    Toyama Prefectural University
  • 依托单位国家：
    日本
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份：
    2016
  • 资助国家：
    日本
  • 起止时间：
    2016-04-01 至 2019-03-31
  • 项目状态：
    已结题

项目摘要

项目成果

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Ultraviolet nanoimprint gas-permeable templates derived from cellulose with acrylate and methacrylate groups to reduce void defects
源自具有丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯基团的纤维素的紫外线纳米压印透气模板，可减少空隙缺陷
  • DOI：
  • 发表时间：
    2018
  • 期刊：
    Jpn. J. Appl. Phys.
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Shinya Nakajima;Satoshi Takei;Soichiro Takamatsu;Kento Mizui;Toshitaka Oka;Yoko Matsumoto;Atsushi Sekiguchi;Makoto Hanabata
  • 通讯作者：
    Makoto Hanabata
High-resolution nanopatterning of biodegradable polylactide by thermal nanoimprint lithography using gas permeable mold
使用透气模具通过热纳米压印光刻技术对可生物降解聚丙交酯进行高分辨率纳米图案化
  • DOI：
  • 发表时间：
    2017
  • 期刊：
    AIP adv.
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Naoto Sugino;Satoshi Takei;Shinya Nakajima;Makoto Hanabata;Takao Kameda;Atsushi Sekiguchi;Satoshi Takei and Makoto Hanabata
  • 通讯作者：
    Satoshi Takei and Makoto Hanabata
Extreme-ultraviolet and electron beam lithography processing using water developable resist material
使用水可显影抗蚀剂材料进行极紫外和电子束光刻加工
  • DOI：
  • 发表时间：
    2017
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Satoshi Takei;Naoto Sugino;Makoto Hanabata
  • 通讯作者：
    Makoto Hanabata
NNIN(米国)
尼宁(美国)
  • DOI：
  • 发表时间：
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
  • 通讯作者：
Utilization of gas permeable metal plate for the purpose of reduction of transfer defect in MEMS electronic device
  • DOI：
    10.1117/12.2325321
  • 发表时间：
    2018-10
  • 期刊：
    Seg Technical Program Expanded Abstracts
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    T. Kameda;Naoto Sugino;S. Takei;M. Hanabata
  • 通讯作者：
    T. Kameda;Naoto Sugino;S. Takei;M. Hanabata
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    2022
  • 资助金额：
    $ 3.16万
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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