Energy Saving Normally-off p-Channel Diamond FET with High-Current Operation

具有高电流运行功能的节能常关 p 沟道金刚石 FET

基本信息

批准号：
25420349
负责人：
Imura Masataka
金额：
$ 3.33万
依托单位：
National Institute for Materials Science
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2013
资助国家：
日本
起止时间：
2013-04-01 至 2016-03-31
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-25420349/
关键词：
ダイヤモンド電界効果トランジスタ MOSFET ゲート絶縁膜原子層体積成長法電子デバイスパワーデバイススパッタ法電子デバイス・電子機器高周波パワーデバイスノーマリオフ型窒化アルミニウム酸化アルミニウム酸化ジルコニウムヘテロ接合酸化ハフニウム

项目摘要

项目成果

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专利数量（0）

Diamond logic inverter with enhancement-mode metal-insulator-semiconductor field effect transistor

DOI：
10.1063/1.4894291
发表时间：
2014-08-25
期刊：
APPLIED PHYSICS LETTERS
影响因子：
4
作者：
Liu, J. W.;Liao, M. Y.;Koide, Y.
通讯作者：
Koide, Y.

Normally-off HfO2-gated diamond field effect transistors

DOI：
10.1063/1.4820143
发表时间：
2013-08-26
期刊：
APPLIED PHYSICS LETTERS
影响因子：
4
作者：
Liu, J. W.;Liao, M. Y.;Koide, Y.
通讯作者：
Koide, Y.

Hole channel formation mechanism in AlN/diamond heterojunction and high-k oxide gate diamond FETs

AlN/金刚石异质结和高 k 氧化物栅极金刚石 FET 中的空穴沟道形成机制

DOI：
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
0
作者：
Y. Koide;M. Imura;J. W. Liu;M. Y. Liao;R. G. Banal;T. Matsumoto;N. Shibata;and Y. Ikuhara
通讯作者：
and Y. Ikuhara

Fabrication of low on-resistance diamond field effect transistors

低导通电阻金刚石场效应晶体管的制造

DOI：
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
0
作者：
J. Liu;M. Y. Liao;M. Imura;and Y. Koide
通讯作者：
and Y. Koide

HfO2/diamond電界効果トランジスタの作成

HfO2/金刚石场效应晶体管的创建

DOI：
发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
0
作者：
劉江偉;M.Y.Liao;井村将隆;小出康夫
通讯作者：
小出康夫

DOI：
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作者：
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Imura Masataka其他文献

Accelerated/decelerated dynamics of the electric double layer at hydrogen-terminated diamond/Li+ solid electrolyte interface

氢封端金刚石/锂固体电解质界面双电层的加速/减速动力学

DOI：
10.1016/j.mtphys.2023.101006
发表时间：
2023
期刊：
Materials Today Physics
影响因子：
11.5
作者：
Takayanagi Makoto;Tsuchiya Takashi;Nishioka Daiki;Imura Masataka;Koide Yasuo;Higuchi Tohru;Terabe Kazuya
通讯作者：
Terabe Kazuya

ダイヤモンドMOSFET界面研究の最近の進展

金刚石MOSFET界面研究最新进展

DOI：
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
0
作者：
Wu Haihua;Sang Liwen;Teraji Tokuyuki;Li Tiefu;Wu Kongping;Imura Masataka;You Jianqiang;Koide Yasuo;Liao Meiyong;嘉数　誠
通讯作者：
嘉数　誠

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硅注入α-Al2O3的光学和电学性能

DOI：
10.35848/1347-4065/ac21af
发表时间：
2021
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子：
1.5
作者：
Okumura Hironori;Jinno Riena;Uedono Akira;Imura Masataka
通讯作者：
Imura Masataka

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基于金刚石 MEMS 的动态共振热失配引起的应力表征

DOI：
10.35848/1882-0786/abe7b0
发表时间：
2021
期刊：
Applied Physics Express
影响因子：
2.3
作者：
Sun Huanying;Shen Xiulin;Sang Liwen;Imura Masataka;Koide Yasuo;You Jianqiang;Li Tie-Fu;Koizumi Satoshi;Liao Meiyong
通讯作者：
Liao Meiyong

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Ge-Sb-Te 相变材料走向太赫兹光电子学

DOI：
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
Wu Haihua;Sang Liwen;Li Yumeng;Teraji Tokuyuki;Li Tiefu;Imura Masataka;You Jianqiang;Koide Yasuo;Toda Masaya;Liao Meiyong;Kotaro Makino;Yasushi Shinohara;Kotaro Makino
通讯作者：
Kotaro Makino