Fabrication of high current output fin-type diamond field-effect transistors

高电流输出鳍式金刚石场效应晶体管的制造

基本信息

  • 批准号:
    16K18096
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.66万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
  • 财政年份:
    2016
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2016-04-01 至 2018-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(44)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Logic circuits with hydrogenated diamond MOSFETs
采用氢化金刚石 MOSFET 的逻辑电路
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    劉 江偉;Meiyong Liao;井村 将隆;小出 康夫
  • 通讯作者:
    小出 康夫
Hydrogenated diamond MOSFETs and logic circuits
氢化金刚石 MOSFET 和逻辑电路
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    村上 厚介,齋藤 健太郎;高田 潤一;J. W. Liu
  • 通讯作者:
    J. W. Liu
High-k TiO2 on diamond for electronic devices: capacitor, field-effect transistor, and logic inverter
用于电子器件的金刚石上高 k TiO2:电容器、场效应晶体管和逻辑逆变器
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    J. W. Liu;M. Y. Liao;M. Imura;B. Ryan;and Y. Koide
  • 通讯作者:
    and Y. Koide
Diamond field-effect transistors
金刚石场效应晶体管
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    劉 江偉
  • 通讯作者:
    劉 江偉
トリプルゲートH-ダイヤモンドMISFET及びその製造方法
三栅H-金刚石MISFET及其制造方法
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

Liu Jiangwei其他文献

The Mogangling giant landslide triggered by the 1786 Moxi M 7.75 earthquake, China
1786年中国磨西7.75级地震引发的莫岗岭特大滑坡
  • DOI:
    10.1007/s11069-020-04471-1
  • 发表时间:
    2021-01
  • 期刊:
  • 影响因子:
    3.7
  • 作者:
    Zhao Bo;Wang Yunsheng;Wu Junfeng;Su Lijun;Liu Jiangwei;Jin Gang
  • 通讯作者:
    Jin Gang
Numerical investigation of thermal behavior and melt pool morphology in multi-track multi-layer selective laser melting of the 316L steel
316L钢多道多层选择性激光熔化热行为和熔池形貌的数值研究
α-Glucosidase inhibitory mechanism of phloridzin
根皮苷的α-葡萄糖苷酶抑制机制
Interface Chemistry and Dielectric Optimization of TMA-Passivated high-k/Ge Gate Stacks by ALD-Driven Laminated Interlayers
通过 ALD 驱动层压中间层对 TMA 钝化高 k/Ge 栅极堆栈进行界面化学和介电优化
  • DOI:
    10.1021/acsami.0c02963
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    9.5
  • 作者:
    Wang Die;He Gang;Hao Lin;Qiao Lesheng;Fang Zebo;Liu Jiangwei
  • 通讯作者:
    Liu Jiangwei
Effect of post-heat treatment cooling on microstructure and mechanical properties of selective laser melting manufactured austenitic 316L stainless steel
热处理后冷却对选区激光熔化奥氏体316L不锈钢组织和力学性能的影响
  • DOI:
    10.1108/rpj-12-2019-0320
  • 发表时间:
    2020-09
  • 期刊:
  • 影响因子:
    3.9
  • 作者:
    Waqar Saad;Liu Jiangwei;Sun Qidong;Guo Kai;Sun Jie
  • 通讯作者:
    Sun Jie

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{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

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{{ showInfoDetail.title }}

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