Theoretical study of an in-situ phase retrieval algorithm for Reflection High-Energy Electron Diffraction during growth

生长过程反射高能电子衍射原位相位恢复算法的理论研究

• 批准号: 25400321
• 负责人: KAWAMURA Takaaki
• 金额: $ 2.83万
• 依托单位: The University of Tokyo (2015-2017)University of Yamanashi (2013-2014)
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2013
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2013-04-01 至 2018-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-25400321/
• 关键词: 位相回復法; 反射電子回折; エピタキシャル成長; 表面モフォロジー; その場観察; 反射電子回折(RHEED); 摂動法; 反射電子回折（RHEED）; 反射電子兼備鏡法; 結晶成長; テンソル法; 位相回復; 反射電子顕微法

项目成果

成長中の表面モフォロジーをRHEED強度から高速に位相回復する方法

一种根据 RHEED 强度快速相恢复生长表面形态的方法

• 发表时间: 2017
• 作者: T. Fukamachi;S. Jongsukswat;D. Ju;R. Negishi;K. Hirano and T. Kawamura;K. Sato;川村隆明;K. Sato;川村隆明
• 通讯作者: 川村隆明

多重散乱理論に基づくRHEED強度と波動場の計算

基于多重散射理论的RHEED强度和波场计算

• 发表时间: 2014
• 作者: T. Ideue;K. Hamamoto;S. Koshikawa;M. Ezawa;S. Shimizu;Y. Kaneko;Y. Tokura;N. Nagaosa and Y. Iwasa;川村 隆明
• 通讯作者: 川村 隆明

Origin of RHEED intensity oscillation during homoepitaxial growth on Si(001)

Si(001) 上同质外延生长过程中 RHEED 强度振荡的起源

• DOI: 10.1016/j.susc.2014.07.016
• 发表时间: 2014
• 期刊: Surface Science
• 影响因子: 1.9
• 作者: Sato;K.;Fujimoto;K.;Nakata;M. and Shikazono;N;T. Kawamura and P.A. Maksym
• 通讯作者: T. Kawamura and P.A. Maksym

RHEED強度を利用した表面モフォロジー変化の解析

使用 RHEED 强度分析表面形态变化

• 发表时间: 2015
• 作者: 川村隆明

Recovery of surface morphology during growth from diffraction intensities

根据衍射强度恢复生长过程中的表面形态

• 发表时间: 2015
• 作者: Takaaki Kawamura