Development of Organic-Inorganic Hybrid Thin films of Extremely High Hardness and Chemical Durability

开发具有极高硬度和化学耐久性的有机-无机杂化薄膜

• 批准号: 23656407
• 负责人: KOZUKA Hiromitsu
• 金额: $ 2.5万
• 依托单位: Kansai University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
• 财政年份: 2011
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2011 至 2012
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-23656407/
• 关键词: 機能性ガラス; ハードコート; シリカ; ペルヒドロポリシラザン; 有機・無機ハイブリッド; 硬度; 密着性; コーティング; 薄膜; ポリシラザン; プラスチック; 湿式プロセス

Silica thin films were prepared from perhydropolysilazane (PHPS) via exposure to the vapor from aqueous ammonia. PHPS-derived silica films had higher hardness, chemical durability and adhesion to plastics than alkoxide-derived silica gel films. Polycarbonate plates were coated with polymethylmethacrylate, and then with PHPS, followed by the exposure to the vapor from aqueous ammonia, which successfully increased pencil hardness from under 10B to H - 2H.

通过暴露于氨水蒸气，由全氢聚硅氮烷（PHPS）制备二氧化硅薄膜。 PHPS 衍生的硅胶薄膜比醇盐衍生的硅胶薄膜具有更高的硬度、化学耐久性和对塑料的附着力。在聚碳酸酯板上涂上聚甲基丙烯酸甲酯，然后涂上 PHPS，然后暴露在氨水蒸气中，成功地将铅笔硬度从 10B 以下提高到 H - 2H。

项目成果

ペルヒドロポリシラザンをシリカ源として作製されるPMMA・シリカハイブリッド薄膜の構造と性質

以全氢聚硅氮烷为二氧化硅源制备PMMA/二氧化硅杂化薄膜的结构与性能

• 发表时间: 2011
• 作者: 中島晃仁;内山弘章;幸塚広光
• 通讯作者: 幸塚広光

ポリシラザンをシリカ源として作製されるシリカ膜および有機・無機ハイブリッド膜のハードコート特性

以聚硅氮烷为二氧化硅源制备的二氧化硅薄膜和有机/无机杂化薄膜的硬涂层性能

• 发表时间: 2013
• 作者: J. Saida;A.D. Setyawan;K. S. Nakayama;北野誉幸,中島晃仁,福嶋泰基,内山弘章,幸塚広光
• 通讯作者: 北野誉幸,中島晃仁,福嶋泰基,内山弘章,幸塚広光

Conversion of perhydropolysilazane-to-silica thin films in basic humid atmosphere at room temperature

室温碱性潮湿气氛中全氢聚硅氮烷向二氧化硅薄膜的转化

• 期刊: J. Am. Ceram. Soc.
• 作者: K. Nakajima;H. Uchiyama and H. Kozuka
• 通讯作者: H. Uchiyama and H. Kozuka

ペルヒドロポリシラザンをシリカ源とする湿式プロセスにより作製されるPMMA・シリカハイブリッド膜のキャラタクタリゼーション

以全氢聚硅氮烷为硅源湿法制备PMMA-二氧化硅杂化膜的表征

• 发表时间: 2012
• 作者: K. S. Nakayama;中島晃仁,内山弘章,幸塚広光
• 通讯作者: 中島晃仁,内山弘章,幸塚広光

アンモニア水上曝露処理によるポリシラザン膜のシリカ膜への転化過程の詳細とシリカ膜の性状

氨水曝光处理聚硅氮烷薄膜转化为二氧化硅薄膜的过程详述及二氧化硅薄膜的性能

• 发表时间: 2011
• 作者: 中島晃仁;内山弘章,幸塚広光
• 通讯作者: 内山弘章,幸塚広光