Crystal structure change in CrN by atom substitution; Factor elucidation and preparation of new super hard material
CrN 中原子取代导致晶体结构发生变化;
基本信息
- 批准号:22686069
- 负责人:
- 金额:$ 16.31万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
- 财政年份:2010
- 资助国家:日本
- 起止时间:2010 至 2012
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
Hardening of coated thin films on cutting tools can increase an efficiency of cutting process. We have developed new material. The new material Cr(N,0), where O atoms are substituted for N atoms in CrN lattice, showed high hardness and superior oxidation resistance. It was found that the crystal structure kept NaC1 type in spite of O atom substitution, since vacancies in Cr site were introduced with increasing oxygen content. Also, Cr(N,0) thin films with large crystalline size were successfully prepared on MgO single crystal substrate. These thin films revealed the oxygen substitution clear, and cause of high oxidation resistance.
切削刀具上涂层薄膜的硬化可以提高切削过程的效率。我们开发了新材料。新材料Cr(N,0)以O原子取代CrN晶格中的N原子,表现出高硬度和优异的抗氧化性。研究发现,尽管有 O 原子取代,晶体结构仍保持 NaC1 型,因为随着氧含量的增加,Cr 位点中引入了空位。并在MgO单晶衬底上成功制备出大晶尺寸的Cr(N,0)薄膜。这些薄膜清楚地揭示了氧取代,以及高抗氧化性的原因。
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
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会议论文数量(0)
专利数量(0)
Preparation of Cr(N,O) thin films by RF reactive unbalanced magnetron sputtering
- DOI:10.1016/j.tsf.2011.01.106
- 发表时间:2011-03
- 期刊:
- 影响因子:2.1
- 作者:J. Shirahata;T. Ohori;H. Asami;Tsuneo Suzuki;T. Nakayama;H. Suematsu;Y. Nakajima;K. Niihara
- 通讯作者:J. Shirahata;T. Ohori;H. Asami;Tsuneo Suzuki;T. Nakayama;H. Suematsu;Y. Nakajima;K. Niihara
CrNへの0, Mgの同時添加による硬度および電気伝導性の評価
CrN中同时添加0、Mg评价硬度和导电率
- DOI:
- 发表时间:2012
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:H.Ikeno;T.Mizoguchi;I.Tanaka;岡田 健一;佐藤蒼生ほか
- 通讯作者:佐藤蒼生ほか
Preparation and Characterization of Cr-Zn-N-0 Thin Films deposited by Pulsed Laser Deposition
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- DOI:10.1143/jjap.50.01be18
- 发表时间:2011
- 期刊:
- 影响因子:1.5
- 作者:Tsuneo Suzuki;Fumiya Sekiguchi;Jun Shirahata;Hiroki Asami;Tadachika Nakayama;Hisayuki Suematsu and Koichi Niihara
- 通讯作者:Hisayuki Suematsu and Koichi Niihara
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