Three Dimensional Micro-structure Formation on Si Surfaces Using Surface-Diffusion-Driven Shape Transformation

使用表面扩散驱动形状变换在硅表面形成三维微结构

基本信息

  • 批准号:
    22560023
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.66万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2010
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2010-04-01 至 2013-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

Spontaneous shape transformation occurs as high-aspect-ratio hole patterns fabricated on Si substrates are annealed in non-oxidizing ambient at high temperatures. In this project, formation technology of three dimensional micro-structures applying the spontaneous shape transformation was investigated. Observing the shape transformation processes for various hole patterns, three dimensional structures created using this method were shown. Performing numerical simulations based on continuum theory, the dominant mass transport mechanism for the observed shape transformation was fond to be surface diffusion.
自发形状转化发生是因为在高温下,在非氧化环境中将SI底物上制造的高光谱孔模式退火。在这个项目中,研究了使用自发形状转换的三维微观结构的编队技术。观察各种孔模式的形状转换过程,使用此方法创建了三维结构。基于连续理论进行数值模拟,观察到的形状转化的主要质量传输机制非常喜欢表面扩散。

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Si(001)表面における高アスペクト比ホールの高温アニールによる空洞形成
Si(001)表面高深宽比孔高温退火形成空腔
  • DOI:
  • 发表时间:
    2013
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    須藤孝一;蛭田玲子;栗林均
  • 通讯作者:
    栗林均
Shape Evolution of High Aspect Ratio Holes on Si(001) during Hydrogen Annealing
Si(001) 上高深宽比孔在氢气退火过程中的形状演化
  • DOI:
    10.1063/1.4829912
  • 发表时间:
    2013
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    K. Sudoh;R. Hiruta;H. Kuribayashi
  • 通讯作者:
    H. Kuribayashi
Formation of Silicon-on-Nothing Structures with Extremely Flat Surfaces
  • DOI:
    10.7567/jjap.52.075601
  • 发表时间:
    2013-07-01
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Sudoh, Koichi;Nakamura, Jun;Maenaka, Kazusuke
  • 通讯作者:
    Maenaka, Kazusuke
Nano-Scale Tensile Testing and Sample Preparation Techniques for Silicon Nanowires
硅纳米线的纳米级拉伸测试和样品制备技术
  • DOI:
    10.7567/jjap.52.110118
  • 发表时间:
    2013
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    T. Fujii;K. Sudoh;S. Sakakihara;M. Naito;S. Inoue;T. Namazu
  • 通讯作者:
    T. Namazu
表面拡散による形態変化を利用した超平坦シリコン・メンブレンの形成
利用表面扩散引起的形态变化形成超平坦硅膜
  • DOI:
  • 发表时间:
    2013
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    須藤孝一;榊原昇一
  • 通讯作者:
    榊原昇一
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  • 资助金额:
    $ 2.66万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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