3D Microfabrication on silicon by a femtosecond laser via non-linear processes

利用飞秒激光通过非线性工艺在硅上进行 3D 微加工

基本信息

  • 批准号:
    26630023
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.5万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
  • 财政年份:
    2014
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2014-04-01 至 2016-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(8)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
赤外フェムト秒レーザーによってシリコン基板裏面に形成された周期構造,
使用红外飞秒激光在硅基板的背面形成周期性结构。
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    片岡大煕;チア シン イン;服部智哉;田辺里枝;伊藤義郎
  • 通讯作者:
    伊藤義郎
Modification and Machining on Back Surface of a Silicon Substrate by Femtosecond Laser Pulses at 1552 nm
1552 nm 飞秒激光脉冲对硅衬底背面进行改性和加工
  • DOI:
    10.2961/jlmn.2014.02.0004
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Yoshiro ITO;Hiroki SAKASHITA;Ryosuke SUZUKI;Mitsuru UEWADA;Khanh Phu LUONG and Rie TANABE
  • 通讯作者:
    Khanh Phu LUONG and Rie TANABE
Formation of fine periodic structure on rear-surface of silicon substrate by femtosecond laser at 1552nm
1552nm 飞秒激光在硅衬底背面形成精细周期结构
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Chiah Sin Ying;Kataoka Daiki;Tanabe Rie ;Ito Yoshiro
  • 通讯作者:
    Ito Yoshiro
Machining on Rear Surface of a Silicon Substrate by an Infrared Femtosecond Laser via Non-linear Absorption Processes
红外飞秒激光非线性吸收过程对硅基片背面进行加工
  • DOI:
    10.1016/j.procir.2016.02.191
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Khanh Phu LUONG;Rie TANABE;Yoshiro ITO
  • 通讯作者:
    Yoshiro ITO
赤外フェムト秒レーザーを用いたSi基板の3次元選択加工における空間光位相変調器による収差補正の効果とSi基板裏面に形成されたLIPSS
使用红外飞秒激光和在硅衬底背面形成的LIPSS对硅衬底进行3D选择性加工时,空间光相位调制器的像差校正效果
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Khanh Phu LUONG;Rie TANABE;Yoshiro ITO;片岡大熙・Chiah Sin Ying・伊藤義郎・田辺里枝
  • 通讯作者:
    片岡大熙・Chiah Sin Ying・伊藤義郎・田辺里枝
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

ITO YOSHIRO其他文献

ITO YOSHIRO的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

{{ truncateString('ITO YOSHIRO', 18)}}的其他基金

Effects of multiple-pulse iradiation in ultra-fast pulse laser processing studied through a newly developed visualization technique
通过新开发的可视化技术研究超快脉冲激光加工中多脉冲辐射的影响
  • 批准号:
    22360060
  • 财政年份:
    2010
  • 资助金额:
    $ 2.5万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)

相似海外基金

ワイドギャップシリコン新材料:シリコン同素体Si46はエピタキシャル成長するか?
新型宽禁带硅材料:硅同素异形体Si46可以外延生长吗?
  • 批准号:
    24K07584
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 2.5万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
シリコン塑性変形技術を用いた高角度分解能で軽量な次世代X線望遠鏡の開発
利用硅塑性变形技术开发下一代高角分辨率轻型X射线望远镜
  • 批准号:
    24K17090
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 2.5万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
次世代高エネルギー重イオン衝突実験に向けた先進的シリコン検出器開発
开发用于下一代高能重离子碰撞实验的先进硅探测器
  • 批准号:
    24K00663
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 2.5万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
フレキシブルテラヘルツデバイスに向けたシリコン有効媒質材料の基盤研究
柔性太赫兹器件硅有效介质材料基础研究
  • 批准号:
    24K00933
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 2.5万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
リチウムイオン電池における層状シリコン負極の反応制御およびその反応機構の解明
锂离子电池层状硅负极反应控制及反应机理阐明
  • 批准号:
    23K21150
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 2.5万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了