Investigation of process reaction mechanism in plasma nitridation with laser diagnostics

激光诊断等离子体氮化过程反应机理研究

• 批准号: 20760046
• 负责人: TAKEDA Keigo
• 金额: $ 2.75万
• 依托单位: Nagoya University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
• 财政年份: 2008
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2008 至 2009
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-20760046/
• 关键词: プラズマ酸窒化; 窒化プロセス; 窒素・酸素ラジカル; プラズマ気相診断; 原子絶対密度計測; 準安定原子状ラジカル; 大気圧マイクロホローカソード光源; 窒素ラジカル; 定量解析; プラズマ酸化; 真空紫外レーザー吸収分光法; 反応メカニズム; 低温プロセス

Plasma oxidation and nitridation are key technology in the silicon technology. In this study, we have successfully measured the absolute densities of activated species, such as oxygen and nitrogen atoms in these processing plasmas, with plasma diagnostics methods such as vacuum ultraviolet laser absorption spectroscopy, etc. Moreover, a technique with a micro hollow cathode lamp has been made technological advances for measuring the metastable atomic radicals.

血浆氧化和硝化是硅技术的关键技术。在这项研究中，我们成功地测量了这些加工等离子体中活化物种的绝对密度，例如氧和氮原子，并使用等离子体诊断方法（例如真空紫外线激光吸收光谱）等等离子体诊断方法等。多over。已经实现了测量亚稳定原子自由基的技术进步。

项目成果

自律型プラズマナノエッチング製造装置の創製～装置が自己判断、自己制御、自己修正する究極のプラズマプロセスの実現～

打造自主等离子体纳米蚀刻制造设备 - 实现设备自我判断、自我控制、自我修正的终极等离子体工艺 -

• 发表时间: 2010
• 期刊: NU VBL news 第14巻
• 作者: 堀勝;竹田圭吾
• 通讯作者: 竹田圭吾

高圧領域でのVHF容量結合型プラズマ中におけるH原子の挙動II

高压区 II 中 VHF 电容耦合等离子体中 H 原子的行为

• 发表时间: 2009
• 作者: 阿部祐介;川嶋翔;竹田圭吾;関根誠;堀勝
• 通讯作者: 堀勝

High performance of compact radical monitoring probe in H_2/N_2 mixture plasma

H_2/N_2混合等离子体中高性能紧凑型自由基监测探头

• 发表时间: 2010
• 期刊: Journal of Vacuum of Science & Technology B 28
• 作者: C.S.Moon;K.Takeda;S.Takashima;M.Sekine;Y.Setsuhara;M.Shiratani;M.Hori
• 通讯作者: M.Hori

自律型プラズマナノエッチング製造装置の創製～装置が自己判断、自己制御

打造自主等离子体纳米刻蚀生产设备——设备自我判断、自我控制

• 发表时间: 2010
• 期刊: 自己修正する究極のプラズマプロセスの実現～, NU VBL news 第14巻
• 作者: 堀勝;竹田圭吾
• 通讯作者: 竹田圭吾

Measurements of Absolute Density and Translational Temperature of Hydrogen Atoms in the High Prssure VHF Capasitively Coupled Plasma

高压VHF电容耦合等离子体中氢原子绝对密度和平移温度的测量

• 发表时间: 2009
• 作者: Y. Abe;K. Takeda;M. Sekine;M. Hori
• 通讯作者: M. Hori