Soft lithography based on photo-isomerization reaction controlling of hydrogen bonding

基于氢键光异构反应控制的软光刻

基本信息

  • 批准号:
    19550184
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 3万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2007
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2007 至 2008
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

ヘモグロビンの代謝物であるビリルビンの光反応を, 工業的な画像複製技術であるリソグラフィープロセスへ応用した。反応活性種の発生しない光異性化反応によってビリルビン分子内の水素結合を解き, これに基づきビリルビン薄膜がほぼ中性の水に近い現像条件など穏やかな条件でポジ型の光パターニングができることを明らかにした。
胆红素的光学反应是血红蛋白的代谢,应用于石刻工艺,这是一种工业图像重复技术。胆红素分子中的氢键是通过未发生的光特异性反应来解决的,很明显,可以在平静的条件下进行阳性光学模式,例如基于此的几乎是中性水的发展条件。

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
光パターニング材料および光パターン形成方法
光学图案材料及光学图案形成方法
  • DOI:
  • 发表时间:
    2005
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
高原茂(招待講演発表者), 生体物質の光シス-トランス異性化反応によるソフトな光パターニング, 千葉大学・科学技術振興機構新技術説明会, 科学技術振興機構JSTホール(東京・市ヶ谷)2007(平成19年3月16日)
Shigeru Takahara(特邀演讲者),生物材料光学顺反异构化反应的软光学图案化,千叶大学/日本科学技术振兴机构新技术简报,日本科学技术振兴机构 JST 大厅(东京市谷)2007 年(3 月 16 日) 2007)
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Molecular photo-patterning materials:Soft lithography process of Bilirubin layer
分子光图案材料:胆红素层的软光刻工艺
  • DOI:
  • 发表时间:
    2007
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Atsumasa Takahashi;Park Chuluho;Syunichi Otsuka;Sgugery Takahara
  • 通讯作者:
    Sgugery Takahara
Molecular photo-patterning materials
分子光图案材料
  • DOI:
  • 发表时间:
    2007
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Atsumasa Takahashi;Park Chulho;Syuichi Otsuka and Shigeru Takahara
  • 通讯作者:
    Syuichi Otsuka and Shigeru Takahara
Photo-patterning of Bilirubin layer
胆红素层的光图案化
  • DOI:
  • 发表时间:
    2008
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Shigeru. Takahara;Atsumasa Takahashi;Park Chulho;Syuichi Otsuka;Satoki Hashimoto
  • 通讯作者:
    Satoki Hashimoto
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

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{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

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{{ showInfoDetail.title }}

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