Development of X-ray scattering measurement system for in-situ observations of semiconductor crystalline growth

半导体晶体生长原位观测X射线散射测量系统的开发

基本信息

  • 批准号:
    19360006
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 11.98万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    2007
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2007 至 2008
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

究極の半導体デバイス開発に必要な、1原子層の精度で界面を評価するX線CTR散乱測定の新しい測定系の開発を行った.固定された試料結晶が焦点に来るように集光されたX 線源と2次元の検出器を組み合わせることで、1) 実験室レベルのX 線源で実現可能、2) 可動部を不要、3) 他の装置等との組み合わせ可能、などの様々な利点を持つ測定系が構築でき、従来のより大型の装置と遜色のない性能をえた.
我们已经开发了一种用于X射线CTR散射测量的新测量系统,该系统以一个原子层的准确性评估界面,这对于最终的半导体设备开发是必需的。通过将集中的X射线源相结合,使固定的样品晶体焦点和二维探测器,我们已经能够构建具有各种优势的测量系统,例如1)可以通过实验室级X射线源,2)无运动零件来实现它,并且可以与其他设备相结合,从而使其与较大的设备相比,可以与其他设备进行比较。

项目成果

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会议论文数量(0)
专利数量(0)
X-ray CTR scattering measurement to investigate the formation process of InP/GaInAs interface
X射线CTR散射测量研究InP/GaInAs界面的形成过程
  • DOI:
    10.1088/1742-6596/83/1/012031
  • 发表时间:
    2007
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    M. Tabuchi;A. Mori;Y. Ohtake;and Y. Takeda
  • 通讯作者:
    and Y. Takeda
成長温度と成長速度がInP/GaInAs 界面に及ぼす影響のX 線CTR 散乱法による解析
X射线CTR散射法分析生长温度和生长速率对InP/GaInAs界面的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2008
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    為岡博;森晶子;田渕雅夫;竹田美和
  • 通讯作者:
    竹田美和
Influence of growth rate and temperature on InP/GaInAs interface structure analyzed by X-ray CTR scattering measurement
X射线CTR散射测量分析生长速率和温度对InP/GaInAs界面结构的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    H. Tameoka;A. Mori;M. Tabuchi;and Y. Takeda
  • 通讯作者:
    and Y. Takeda
X-ray CTR scattering, measurements using conventional X-ray source to study semiconductor hetero-interfaces
X 射线 CTR 散射,使用传统 X 射线源进行测量以研究半导体异质界面
Mechanisms of As distribution in InP on GaInAs layer grown by OMVPE
OMVPE 生长的 GaInAs 层上 InP 中 As 的分布机制
  • DOI:
  • 发表时间:
    2007
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    M. Tabuchi;Y. Ohtake;A. Mori;and Y. Takeda
  • 通讯作者:
    and Y. Takeda
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

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{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

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  • 资助金额:
    $ 11.98万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
{{ showInfoDetail.title }}

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