新溶融塩電解法によるシリカからのソーラーグレードシリコン製造

使用新型熔盐电解方法从二氧化硅生产太阳能级硅

基本信息

  • 批准号:
    16686044
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 19.14万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
  • 财政年份:
    2004
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2004 至 2006
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

平成17年度までの結果を踏まえ、高純度実証試験および電位-p02-図を用いた還元メカニズムの熱力学的考察を行った。まず、高純度化試験として、石英るつぼを石英製反応容器に入れ、高純度CaCl2(99.9%)を溶融塩として、電解還元を行った。この際、SiO2接触型電極のリードとしては、不純物となり得るモリブデンに代わり高純度シリコンを用いた。原料となるシリカに太陽電池級(99.9999%)のものを使用し、還元生成したシリコンの純度をGD-MS等により精密に分析した。その結果、特にシリコンからの除去が難しいホウ素およびリンは、それぞれ8ppmおよび1ppmであり、電解還元による増加は認められなかった。一方、浴成分であるCaが230ppm、対極カーボン由来と思われるCが220ppm、浴中不純物と思われるFeが22ppm、上部電極リードに使用したMoが17ppm検出されるなど、トータルの純度としては99.95%にとどまった。ただし、昨年度と比較すると、Fe:810→22ppm、 Mn:240→0ppm、トータル:99.8→99.95%と大幅に改善した。これらの比較的多く検出された不純物は、実験装置、実験手法の改善により、さらに削減できると考えられるため、現在その検討を行っている。さらに、報告されている熱力学データおよび本研究で得られたSi-Ca合金生成電位に関するデータをもとに、溶融CaCl2中、850℃における電位-P02-図を作成した。その結果、酸化物イオン濃度がある程度高い浴中においては、SiO2から一度CaSiO3を経由してSiへ還元されるメカニズムが示唆された。
根据截至2005年的结果,我们使用高纯度示范测试和电势P02-DIAGRAM对还原机理进行了热力学检查。首先,在高纯度测试中,将石英坩埚放在石英反应容器中,并使用高纯度CaCl2(99.9%)作为熔融盐进行电解还原。在这种情况下,高纯度硅被用作SIO2接触型电极的铅,而不是钼,这可能成为杂质。原材料二氧化硅是太阳能电池等级(99.9999%),并且使用GD-MS等精确地分析了还原硅的纯度。结果,硼和磷从硅从硅中特别难以清除的硼和磷分别为8 ppm和1 ppm,并且由于电解还原降低而没有观察到增加。另一方面,在230 ppm,c下检测到浴缸组件的Ca,被认为是从柜台电极碳中得出的,220 ppm,Fe,被认为是浴缸中的杂质,而在浴缸中是17 ppm的MO,用于上电极铅,仅检测到99.995%的高电极铅。但是,与去年相比,改善的改善显着改善,Fe:810至22ppm,MN:240至0ppm,总计:99.8%至99.95%。通过改进实验设备和实验方法,可以进一步降低这些相对较大的杂质,目前正在研究中。此外,基于报道的热力学数据以及在本研究中获得的Si-Ca合金生成的潜力的数据,制备了850°C下熔融CaCl2中的潜在P02-克。结果,建议通过在具有相对较高氧化物离子浓度的浴中通过casio3从sio2降低到Si2。

项目成果

期刊论文数量(3)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

野平 俊之其他文献

NaCl-CaCl2-CaO浴中におけるB2O3の電解還元挙動
B2O3在NaCl-CaCl2-CaO浴中的电解还原行为
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    片所 優宇美;大石 哲雄;野平 俊之
  • 通讯作者:
    野平 俊之

野平 俊之的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

{{ truncateString('野平 俊之', 18)}}的其他基金

使用済み耐火物のクライオライト系電解質への溶解および電解還元メカニズムの解明
阐明废旧耐火材料在冰晶石电解质中的溶解和电解还原机理
  • 批准号:
    22F21749
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 19.14万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
New production process of solar-grade silicon utilizing liquid zinc cathode
利用液态锌阴极生​​产太阳能级硅的新工艺
  • 批准号:
    21H04620
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 19.14万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
使用済み耐火物のクライオライト系電解質への溶解および電解還元メカニズムの解明
阐明废旧耐火材料在冰晶石电解质中的溶解和电解还原机理
  • 批准号:
    21F21749
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 19.14万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
中低温イオン液体を用いた新規アモルファスシリコン薄膜形成法
新型中低温离子液体非晶硅薄膜形成方法
  • 批准号:
    20656117
  • 财政年份:
    2008
  • 资助金额:
    $ 19.14万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
溶融塩中でのシリカの直接電解還元による高純度シリコン製造
熔盐中直接电解还原二氧化硅生产高纯硅
  • 批准号:
    15656191
  • 财政年份:
    2003
  • 资助金额:
    $ 19.14万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Exploratory Research
溶融塩電気化学プロセスを用いた新規なシランガス生成法
利用熔盐电化学过程产生硅烷气体的新型方法
  • 批准号:
    12750650
  • 财政年份:
    2000
  • 资助金额:
    $ 19.14万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)

相似海外基金

6G通信を実現する超低誘電率・超低損失の次世代コンポジット誘電体材料の創製
打造新一代超低介电常数、超低损耗复合介电材料,实现6G通信
  • 批准号:
    22K14493
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 19.14万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
Electrochemical formation Si film in LiF-KF
LiF-KF中电化学形成Si膜
  • 批准号:
    15K05652
  • 财政年份:
    2015
  • 资助金额:
    $ 19.14万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Fabrication of self-propagating exothermic nanoparticles with tunable exothermic parformances
具有可调放热性能的自蔓延放热纳米粒子的制造
  • 批准号:
    26600047
  • 财政年份:
    2014
  • 资助金额:
    $ 19.14万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
Innovation in Production Method of Solar Silicon
太阳能硅生产方法的创新
  • 批准号:
    23246131
  • 财政年份:
    2011
  • 资助金额:
    $ 19.14万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
溶融塩中でのシリカの直接電解還元による高純度シリコン製造
熔盐中直接电解还原二氧化硅生产高纯硅
  • 批准号:
    15656191
  • 财政年份:
    2003
  • 资助金额:
    $ 19.14万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Exploratory Research
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了