Si単結晶薄膜成長中における光電子スペクトル強度の振動に関する基礎的研究

单晶硅薄膜生长过程中光电子能谱强度振荡的基础研究

基本信息

  • 批准号:
    04750002
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 0.7万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 财政年份:
    1992
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1992 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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  • 通讯作者:
    遠田 義晴
電子線照射によるシリコン酸化膜の還元に伴う表面変形
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  • 发表时间:
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  • 通讯作者:
    小笠原 崇仁

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