分子線エピタキシー法による金属/半導体ヘテロ接合の形成

通过分子束外延形成金属/半导体异质结

基本信息

  • 批准号:
    03855051
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 0.58万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 财政年份:
    1991
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1991 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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  • 期刊:
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  • 期刊:
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  • 影响因子:
    0
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  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    大矢 忍;荒木 大晴;Anh Le Duc;金田 真悟;関 宗俊;田畑 仁;田中 雅明
  • 通讯作者:
    田中 雅明

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