Understanding of optical luminescence mechanism of phosphors by establishment of X-ray luminescence holography

通过建立X射线发光全息术了解荧光粉的光学发光机理

基本信息

批准号：
15360329
负责人：
MATSUBARA Eiichiro
金额：
$ 9.79万
依托单位：
Kyoto University (2005)Tohoku University (2003-2004)
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2003
资助国家：
日本
起止时间：
2003 至 2005
项目状态：
已结题

项目摘要

X-ray excited optical luminescence (XEOL) has been applied to the site selective XAFS measurements. On the other hand, atomic resolution x-ray holography, which can determine local structure around a specified atom, normally uses the x-ray fluorescence. Before starting this project, there has been no idea of the use of XEOL for othe X-ray holography. To explore new analytical possibility of the XEOL application, we focused on X-ray incident beam angular anisotropy of the XEOL intensity and studied a feasibility of atomic resolution X-ray holography. A ZnO epitaxial film on Al_2O_3 (sapphire) single crystal was adopted for the sample in the present study, because the XEOL is known to be occurred for ZnO and sapphire. The experiments were done at the synchrotron radiation facility SPring-8. The observed intensity variation of the XEOL corresponded to the hologram pattern of Al_2O_3 substrate, which was different from the X-ray fluorescence hologram pattern of Zn Kα. In order to attribute … More the XEOL hologram, we estimated positions and amplitudes of the X-rat standing wave lines observed in the hologram patterns by averaging over a given direction of reciprocal lattice space. Measurement of the XEOL spectrum from the ZnO/Al_2O_3 showed that the luminescence from sapphire was dominant, and this was consistent with the result of the XEOL hologram. The X-ray holography measurement using x-ray fluorescence is generally difficult for light elements, such as Al or Si, because of its low cross section for inner shell ionization and the absorption by air. The present study demonstrates that hard x-ray holography measurement for light element can be easily carried out using XEOL. Moreover, we found that the ZnO/AL_2O_3 sample used here emit the strong ultraviolet luminescence (373 nm), which corresponded to bang gap of ZnO thin film, by cooling to 100 K. By selecting the luminescence from ZnO thin film using a grating monochromator, the hologram pattern of ZnO layer could be recorded. Less

X射线激发光发光（XEOL）已应用于位点选择性XAFS测量。另一方面，原子分辨率X射线全息图（可以确定特定原子周围的局部结构）通常使用X射线荧光。在启动该项目之前，不知道将Xeol用于X射线全息图。为了探索XEOL应用的新分析可能性，我们集中于XEOL强度的X射线入射束角各向异性，并研究了原子分辨率X射线全息图的可行性。在本研究中，该样品采用了Al_2O_3（蓝宝石）上的ZnO外延膜，因为已知XEOL发生在Zno和Sapphire中。实验是在同步加速器辐射设施Spring-8上进行的。 XEOL观察到的强度变化对应于Al_2O_3底物的全息图模式，这与ZnKα的X射线荧光全息图不同。为了归因……更多的XEOL全息图，我们通过平均在给定的相互晶格空间的给定方向上平均估算了在全息图模式中观察到的X型rat驻波线的位置和放大器。 ZnO/Al_2O_3的XEOL光谱的测量表明，来自蓝宝石的发光是主导的，这与Xeol全息图的结果一致。对于诸如Al或Si之类的光元素，使用X射线荧光的X射线全息测量通常很难，因为其内壳电离和空气的抽象较低。本研究表明，可以使用XEOL轻松地对光元素进行硬X射线全息测量。此外，我们发现这里使用的ZnO/al_2O_3样品通过冷却至100 k来发出强紫外发光（373 nm），与Zno薄膜的爆炸隙相对应。较少的

项目成果

期刊论文数量（26）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Three-dimensional atomic image around Mn atoms in dilute magnetic semiconductor Zn_<0.4>Mn_<0.6>Te obtained by X-ray fluorescence holography

X射线荧光全息技术获得稀磁半导体Zn_<0.4>Mn_<0.6>Te中Mn原子周围的三维原子图像

DOI：
发表时间：
2004
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics 44
影响因子：
0
作者：
S.Hosokawa;N.Happo;K.Hayashi;Y.Takahashi;T.Ozaki;K.Horii;E.Matsubara
通讯作者：
E.Matsubara

X線分光ホログラフィーで磁区構造を見る

使用 X 射线光谱全息术观察磁畴结构

DOI：
发表时间：
2005
期刊：
現代化学 410
影响因子：
0
作者：
Y.Takahashi et al.;T.Sekioka et al.;K.Hayashi;K.Hayashi et al.;林好一
通讯作者：
林好一

X線励起発光を用いた新しい原子分解能ホログラフィー法の開発

利用 X 射线激发发射开发新的原子分辨率全息术方法

DOI：
发表时间：
2004
期刊：
日本物理学会第59回年次大会概要集 1
影响因子：
0
作者：
K.Hayashi;T.Hayashi;Y.Takahashi;S.Shigeru;E.Matsubara;Y.Takahashi et al.;Y.Takahashi et al.;K.Hayashi et al.;S.Hosokawa et al.;林徹太郎他
通讯作者：
林徹太郎他

逆X線光電子ホログラフィー装置及びその測定方法

反向X射线光电子全息装置及其测量方法