CVD法による超塑性チタン-シリコン-炭素系三元化合物セラミックスの合成

CVD法合成超塑性钛硅碳三元复合陶瓷

基本信息

  • 批准号:
    62750692
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 0.58万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 财政年份:
    1987
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1987 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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後藤 孝其他文献

高速CVDプロセスの開発
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  • 发表时间:
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マグネトロンスパッタリング法により作製した傾斜機能亜酸化ケイ素膜の放射冷却特性
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  • 影响因子:
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  • 通讯作者:
    増本 博
傾斜機能材料の開発と応用
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  • DOI:
  • 发表时间:
    2003
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    後藤 孝
  • 通讯作者:
    後藤 孝
回転CVDにより繊維基材にコーティングしたSiC膜の微細組織
旋转CVD法在纤维基体上沉积SiC薄膜的微观结构
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
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  • 作者:
    堀大樹;且井 宏和;後藤 孝
  • 通讯作者:
    後藤 孝

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  • 通讯作者:
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フッ化物透明セラミックスによる新規レーザー材料の開発
利用氟化物透明陶瓷开发新型激光材料
  • 批准号:
    13F03066
  • 财政年份:
    2013
  • 资助金额:
    $ 0.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
レーザー・プラズマハイブリッドCVDによる高配向超電導膜の高速合成
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  • 批准号:
    11F01375
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    2011
  • 资助金额:
    $ 0.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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  • 批准号:
    10F00365
  • 财政年份:
    2010
  • 资助金额:
    $ 0.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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  • 批准号:
    08F08370
  • 财政年份:
    2008
  • 资助金额:
    $ 0.58万
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  • 批准号:
    12875119
  • 财政年份:
    2000
  • 资助金额:
    $ 0.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Exploratory Research
熱電変換材料としてのホウ化ケイ素/ホウ化チタンナノコンポジットのCVDによる合成
CVD合成硼化硅/硼化钛纳米复合材料作为热电转换材料
  • 批准号:
    01550543
  • 财政年份:
    1989
  • 资助金额:
    $ 0.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
化学気相析出法によるホウ化ケイ素の合成とその高温機能材料への応用
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  • 批准号:
    60750690
  • 财政年份:
    1985
  • 资助金额:
    $ 0.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
化学気相析出法により合成した非晶質Si_3N_4-C複合材料のIC被覆としての応用
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  • 批准号:
    57750233
  • 财政年份:
    1982
  • 资助金额:
    $ 0.58万
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    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
高温金属材料上への炭化ケイ素被覆における熱膨張緩和層の形成
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    56750512
  • 财政年份:
    1981
  • 资助金额:
    $ 0.58万
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    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)

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    2027
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    Studentship
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知道了