プラズマ環境AFMの関発とそのプラズマ薄膜プロセスナノスケール制御への応

等离子体环境AFM及其在等离子体薄膜纳米级控制中的应用

• 批准号: 10875140
• 负责人: 寺嶋 和夫
• 金额: $ 1.34万
• 依托单位: The University of Tokyo
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Exploratory Research
• 财政年份: 1998
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1998 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-10875140/
• 关键词: プラズマ環境; SPM; AFM; プラズマプロセス

本研究では、世界に先駆け、(1) プラズマ環境中で作動する原子間力顕微鏡(AFM)の開発。(2) 上記装置を用い、シリコン(Si)およびSrTiO_3のプラズマ・エッチング/ポリッシングナノスケールその観察および制御を通じて、固体-プラズマ界面構造の原子オーダー制御への応用。を試み、従来,成しえなかった"固体-プラズマ界面構造の原子オーダー計測/制御"を目指したものである。今年度の研究経過は以下のようである。(A) プラズマ環境中で作動する原子間力顕微鏡(AFM)の開発世界初のプラズマ環境中で作動する原子間力顕微鏡(プラズマAFM)の開発を試みた。主な要素技術のうち、(1)AFMプローブ部。(2)プラズマ発生部。の完成はみたものの、(3)AFM本体のアセンブリーは今年度中には終了しなかった。(B) プラズマエッチング/ポリシングのナノスケールその観察/制御装置開発は完成には至らなかったため、ex-situでプラズマスパッタリングで作製したcBN膜のAFMによる微細組織蜆察、微小領域での力学測定を行った。測定法の標準化に計る提案を行った。

这项研究是世界上第一个开发（1）在等离子体环境中运行的原子力显微镜（AFM）的研究。 （2）使用上述设备，通过观察和控制，将硅（SI）和SRTIO_3的血浆蚀刻/抛光纳米级应用于固相物界面结构的原子秩序控制。这是为了实现过去无法实现的固体等流质界面结构的原子顺序测量/控制。今年的研究进展如下：（a）在血浆环境中运行的原子力显微镜（AFM）的开发，我们试图开发在等离子体环境中运行的原子力显微镜（等离子体AFM）。在主要组件中，（1）AFM探针部分。 （2）血浆生成部分。尽管我们已经看到了完成，但（3）在本财政年度内未完成AFM本身的组装。 （b）未完成血浆蚀刻/抛光的纳米级观测/控制装置的开发，因此使用AFM检查了微观结构囊，并在MicroRegion中在由Ex-Situ等离子体溅射制造的CBN膜中进行了机械测量。我们提议标准化测量方法。

项目成果

K.Terashima: "Scanning tunneling microscopy operating under a plasma environme" Thin Solid Films. (印刷中). (1999)

K.Terashima：“在等离子体环境下运行的扫描隧道显微镜”薄固体薄膜（1999 年出版）。