プラズマ環境AFMの開発とそのプラズマ材料表面プロセス原子スケール制御への応用

等离子体环境AFM的发展及其在等离子体材料表面过程原子尺度控制中的应用

基本信息

  • 批准号:
    10875125
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.34万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Exploratory Research
  • 财政年份:
    1998
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1998 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

本研究では、世界に先駆け、(1) プラズマ環境中で作動する原子間力顕微鏡(AFM)の開発。(3) 上記装置を用い、シリコン(Si)およびSrTiO_3のプラズマ・エッチング/ポリッシングナノスケールその観察および制御を通じて、固体-プラズマ界面構造の原子オーダー制御への応用。を試み,従来成しえなかった"固体-プラズマ界面構造の原子オーダー計測/制御"を目指したものである。今年度の研究経過は以下のようである。(A) プラズマ環境中で作動する原子間力顕微鏡(AFM)の開発世界初のプラズマ環境中で作動する原子間力顕微鏡(プラズマAFM)の開発を試みた。主な要素技術のうち、(1)AFMプローブ部。(2)プラズマ発生部。の完成はみたものの、(3)AFM本体のアセンブリーは今年度中には終了しなかった。一方、SPMのAFMの仲間である、プラズマ環境中で作動するSTMの高度化、STM/SNOM同時測定装置の開発を行った。(B) プラズマエッチング/ポリシングのナノスケールその観察/制御装置開発は完成には至ちなかったため、ex-situでプラズマスパッタリングで作製したcBN膜のAFMによる微細組織観察、微小領域での力学測定を行った。測定法の標準化に関する提案を行った。
在这项研究中,在世界前的血浆环境中运行的原子显微镜(AFM)的发展。 (3)通过观察和控制SRTIO_3的血浆(SI)和SRTIO_3等离子体(SI)和SRTIO_3等离子体蚀刻/抛光纳米级,适用于固相界面结构的原子阶秩序控制。这是过去无法完成的“固相接口结构测量/控制”的目的。今年研究的进展如下。 (a)在等离子体环境中运行的间歇力显微镜(AFM)的发展,我们试图开发在第一个等离子体环境中运行的间歇力显微镜(等离子体AFM)。在主要元素技术中,(1)AFM探测器。 (2)血浆发生部。 (3)AFM本身的(3)ASEMBRIII今年没有结束。另一方面,开发了SPM AFM朋友,即在等离子体环境中运行的STM,开发了STM/SNOM同时测量设备。 (b)要观察/控制的等离子体蚀刻/抛光纳米级项目,因此未完成,因此CBN膜AFM是通过带有ex-situ的等离子体制成的,而微观区域的力学测量值则进行了。提出了标准化测量方法的建议。

项目成果

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