再放出陽電子顕微鏡の製作とその応用

再发射正电子显微镜的制作及其应用

基本信息

批准号：
08650775
负责人：
堂山昌男
金额：
$ 1.34万
依托单位：
Teikyo University of Science & Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
1996
资助国家：
日本
起止时间：
1996 至无数据
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-08650775/
关键词：
陽電子顕微鏡イメージングプレート陽電子回折

项目摘要

陽電子再放出顕微鏡の基本として、一番大切な陽電子による像のレコ-デイングをどうしたら記録できるかを先ず研究した。一般に陽電子の位置敏感なデイテクターは非常に大がかりな装置が必要である。マルチワイヤープロポーショーナルカウンターとか、大きな単結晶に多数のフォトマルトプライヤーをつけたもの、多数のBGO(ビスマスジャーマネイト)とフォトマルとの組み合わせ、などが用いられる。陽電子の像の記録にイメジングプレートが使えるかを研究した。イメジングプレートの上に直接^<22>Na,^<58>Co,^<64>Cuを時間を変えて置き、これをプロセスし、特性曲線を得た。イメジングプレートは電子顕微鏡用のものを使用した。陽電子に露出した後、富士フィルム製の検出器を用いた。検出器の読みはfp=αf^β_<e+>という式で書け、logαの値を-4.20【.+-。】0.0645,β=0.973【.+-。】0.00901という式に表せることがわかった。イメジングプレートに陽電子が感じることを示したのは世界最初である。これにより、陽電子の像の記録非常に容易になった。さらに上式は6桁にわたって成立することがわかったことは驚くべきことである。写真用フィルムは一般に2桁以下しか定量出来ないのに比べればなんとフィルムの10000倍もドース量と検出量が比例するのである。さらに、陽電子顕微鏡の第1段階ともいうべく陽電子線回折がシリコンと^<58>Coから放出される陽電子を用いて得ることができた。さらにタングステン箔を用いた陽電子減速にも成功した。現在減速された陽電子を金属円筒状レンズを用いて高輝度の陽電子ビームを得ようとしている。

作为正电子重新发射显微镜的基础，我们首先研究了如何使用正电子记录最重要的图像记录。正电子位置敏感探测器通常需要一个非常大的设备。一个多线提出的柜台，具有许多摄氏钳子的大型单晶，以及许多BGO（德国人）和光疗法的组合。我们研究了是否可以使用图像板来记录正电子图像。 ^<22> na，^<58> co，^<64> Cu在不同时间直接放置在成像板上，并进行处理以获得特征曲线。成像板用于电子显微镜。暴露于正音调后，使用了富士探测器。可以使用公式fp =αf^β_<e+>读取检测器，logα的值为-4.20 [。+ - 。】0.0645，β= 0.973【。+ - 。】已经发现它可以在公式0.00901中表达。这是世界上第一个表明在图像板上可以感觉到的。这使得录制正电子图像非常容易。此外，令人惊讶的是，上述公式可容纳六位数。摄影膜通常可以量化少于两个数字，但相比之下，剂量和检测的量与检测量比膜的量比对检测的数量高10,000倍。此外，正电子显微镜的第一阶段，可以使用从硅和 ^<58> Co发出的正电子来获得正电子衍射。此外，使用钨箔也成功地减速也是成功的。当前，使用金属圆柱形镜头来获得高度发光的正电子束。