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深共晶溶媒を用いた新たな分離場の創出とGa,Ge,Sbの革新的分離技術の開発
使用低共熔溶剂创建新的分离领域并开发 Ga、Ge、Sb 的创新分离技术
基本信息
- 批准号：24K15356
- 负责人：
- 金额：$ 2.91万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2024
- 资助国家：日本
- 起止时间：2024-04-01 至 2027-03-31
- 项目状态：未结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
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