電気学的手法による高機能磁性薄膜材料の創製

利用电学方法创建高功能磁性薄膜材料

基本信息

批准号：
04205125
负责人：
逢坂哲彌
金额：
$ 1.02万
依托单位：
Waseda University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
1992
资助国家：
日本
起止时间：
1992 至无数据
项目状态：
已结题

项目摘要

本研究は、電気化学的手法を用いて機能性薄膜材料を創製する際の基礎的材料設計指針を得ることを目的とし、代表的電気化学成膜法である無電解めっき法による高機能磁性薄膜を中心に研究を行うものである。本年度は、まず前年度に開発した無電解CoNiP垂直磁気記録媒体の機能特性と微細構造の相関性について詳細な検討を行った。この膜はc軸が基板面に対し垂直配向したhcp構造をとる結果垂直異方性が発現することが確認されているが、平均膜組成はNiリッチであり、CoNiバルク合金の平衡状態においてはfcc構造のみが安定な領域である。そこで、熱処理法およびスピンエコー^<59>Co-NMR法により検討を行った結果、この膜は成膜時において組成不均一であり、特にCoリッチな成分が存在することにより高Hcなどの特性が発現していることが明かとなった。次にこのようなCoリッチ成分の膜中での存在状態を確認するため選択化学エッチング法を用いた解析を行い、Coリッチな強磁性微粒子が非磁性領域に分散偏析した微細構造をとる結果、超高分解能・超高密度記録に適した機能特性が発現いていることが明かとなった。続いて前年度に開発いた無電解CoB軟磁性薄膜について、更なる特性向上という観点から種々の検討を試みたが、特に成膜後の磁場中然処理が有効であることが明かとなった。成膜後に2k0e程度の外部磁界を印加しながら真空中にて30min程度熱処理することにより異方性磁界Hkが減少すると共に、透磁率μの上昇が見られた。μ上昇は処理温度により異なるが、150^ﾟC熱処理において最大値(2000以上)が得られた。

这项研究旨在获得使用电化学技术创建功能性薄膜材料的基本材料设计指南，并专注于使用Electroless Plating（一种典型的电化学膜沉积法），专注于高性能的磁性薄膜。今年，我们首先对上一年开发的垂直磁性记录培养基的功能特征进行了详细的检查和相关性。已经证实，该膜具有HCP结构，其中c轴垂直于底物表面，并且垂直向向性各向异性发生，但是平均膜组成是富含Ni的，并且在Coni Bulk构成的平衡状态下，只有FCC结构稳定。因此，使用热处理方法和自旋回声^<59> CO-NMR方法进行了研究，并发现该薄膜在膜形成过程中具有不均匀的组成，并且特别揭示了富含共同的成分的HC和其他特性。接下来，为了确认膜中这种共同富集的成分的存在，使用选择性化学蚀刻方法进行了分析，结果，分散了富含共同的铁磁细节并将其隔离到非磁性区域中，并将其揭示出适用于超高分辨率和超高密度记录的功能性能。接下来，已经进行了各种研究，从上一年从进一步改善特性的角度开始开发的电气COB软磁性薄膜，并且已经揭示了膜形成后磁场中的自然处理特别有效。沉积膜后，在应用约2K0E的外部磁场时在真空中进行热处理约30分钟，从而减少了各向异性磁场HK，并增加了渗透率μ。 μ的增加取决于治疗温度，但在150°C热处理期间获得了最大值（超过2000）。