電気化学的手法による高機能磁性薄膜材料の創製

使用电化学方法创建高功能磁性薄膜材料

基本信息

批准号：
03205113
负责人：
逢坂哲彌
金额：
$ 0.96万
依托单位：
Waseda University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
1991
资助国家：
日本
起止时间：
1991 至无数据
项目状态：
已结题

项目摘要

本研究では、電気化学的薄膜作製法、特に無電解めっき法による高密度磁気記録媒体材料および軟磁性薄膜材料の膜特性・微細構造および膜生成過程の相関性の検討より、生産性に優れた本手法を用いて機能性薄膜材料を創製する際の基礎的材料設計指針を得ることを目的とした。以下に本年度の検討より得られた成果の概要を示す。1.高密度磁気記録媒体高密度磁気記録媒体薄膜として、垂直磁気異方性を有する無電解CoNiReP合金薄膜を開発してきたが、本研究では従来は面内磁気記録媒体に用いられていたCoNiP三元系薄膜の成膜条件の最適化により、垂直異方性を有する膜の作製が可能であると共に、その保磁力は、浴因子の調整により1500Oe程度まで連続的に制御可能であることを明らかにした。また、いずれの保磁力の膜も折出初期に20nm厚程度の低保磁力領域を有し、このような領域が下地層として働く結果、単層媒体でも良好な記録再生特性を得られることを明らかにした。2.軟磁性薄膜材料前項の磁気記録媒体に関する検討より得られた知見を基に、無電解めっき法による軟磁性薄膜材料作製について検討した結果、ジメチルアミンボラン(DMAB)を還元剤に用いた無電解CoB系浴において、複合錯化剤系を最適化することにより、成膜時より良好な軟磁気特性を有する薄膜が得られることを明らかにした。このCoB膜は面内方向に磁気異方性を示したが、成膜時に外部磁界を印加することにより、この異方性を印加磁界方向に誘導可能であると共に、軟磁気特性も改善されることを確認した。さらにCoB二元系にFeを添加することにより、特に透磁率が大きく向上することを確認し、本手法が軟磁性薄膜作製手法としても高いポテンシャルを有することを明らかにした。

在这项研究中，它在生产力上比检查膜特征，精细结构和高密度磁记录培养基材料和软磁性薄膜材料的膜生成过程，尤其是由于电动化学薄膜生产方法要获得使用此方法创建功能性薄膜材料的基本材料设计指南。这是从今年的研究中获得的结果的概述。 1。高密度磁记录培养基高密度磁记录介质作为薄膜，已经开发出具有垂直磁性各向异性的电解性圆锥形合金薄膜。通过将浴缸因子调整为约1500OE来连续控制。此外，每种磁力的膜在早期阶段还具有约20 nm厚的低权效区域，并且由于这样的区域作为基础层，也可以获得良好的记录再生特征我揭示了一个层次。 2。基于从上一段中对磁记录介质的检查获得的知识，由于考虑了通过电解板方法产生软磁性薄膜材料的结果，没有二甲基氨基烷（DMAB）（DMAB））作为电解棒浴中的还原剂。该蛋白膜表明表面内部的磁各向异性，但是通过在膜形成时施加外部磁场，可以在磁场的方向上诱导这种各向异性，并且软磁性特性也得到了改善确认了这一点。此外，已经证实，向棒芯两叶系统添加Fe将显着提高渗透率，并且该方法作为软磁性薄膜生产方法具有很高的潜力。