層間挿入によるh-BNの半導体化とベータボルタ電池応用
层间插入六方氮化硼的半导体化和β伏打电池应用
基本信息
- 批准号:23H01456
- 负责人:
- 金额:$ 11.65万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份:2023
- 资助国家:日本
- 起止时间:2023-04-01 至 2027-03-31
- 项目状态:未结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
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$ 11.65万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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$ 11.65万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
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- 资助金额:
$ 11.65万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)