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Development of imaging technique for magnetic field distribution near integrated circuit substrate in ultra-high frequency band
超高频段集成电路衬底附近磁场分布成像技术进展
基本信息
- 批准号：23H01425
- 负责人：
- 金额：$ 11.98万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份：2023
- 资助国家：日本
- 起止时间：2023-04-01 至 2026-03-31
- 项目状态：未结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
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会议论文数量（0）
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