電気泳動堆積法による高周波対応軟磁性フェライト膜の室温形成

采用电泳沉积法室温形成高频兼容软磁铁氧体薄膜

基本信息

批准号：
16760250
负责人：
枦修一郎
金额：
$ 2.3万
依托单位：
Gifu University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份：
2004
资助国家：
日本
起止时间：
2004 至 2005
项目状态：
已结题

项目摘要

電気泳動堆積法による軟磁性フェライト膜の室温形成手法の確立を目的として、本年度の研究より得られた知見を以下に示す。1.前年度の検討結果を基にして、NiZnフェライト微粒子からなる膜の作製を行ったところ、懸濁液のpH=2.7,極板間印加電圧:1.2V,30分の成膜時間において12μmの膜厚が得られ、成膜速度にして毎分約400nmと高速な成膜が可能となった。またこの膜の高周波透磁率特性の評価を行ったところ、成膜時に磁気異方性制御を行っておらず膜は等方的であるため、強磁性共鳴周波数は約1GHz程度、透磁率の実部であるμ'は約6〜8程度を示した。2.高周波特性改善のため、成膜時の微粒子に磁界を印加し異方性制御が可能か検討を行った。磁界印加は永久磁石により行い、本年度購入したガウスメータにより磁界強度を60〜300G(ガウス)の範囲で調節した。しかしながら永久磁石による磁界印加は磁場勾配が大きく堆積基板付近の良質な磁気特性を示す微粒子濃度が低下し、大きな異方性の付与は困難であった。この膜の共鳴周波数は2GHzまで上昇したが、μ'は5以下まで低下した。良質な微粒子の欠乏により飽和磁化が低下したためであると考えられる。3.プリント基板および導電性薄膜(ITO)が形成された基板を用いて、フェライト微粒子の堆積を試みた。基板上の導電層の種類によって電気泳動堆積を行う際の懸濁液pHは若干異なるものの、概ね膜の形成は可能であった。しかしながら乾燥後の膜表面には、数μm幅の細かいひび割れが確認されるものもあり、導電層の厚さや成膜時の電流密度など、成膜条件について詳細な検討を積み重ねていく必要がある。以上より、平成17年度の研究計画を全て遂行し、上記のような研究成果をあげることができた。またこれらの成果の一部は11に記載した学術雑誌"IEEE Tran.Magn."に論文として掲載されている。

从今年的研究中获得的发现如下，目的是建立一种使用电泳沉积在室温下形成软磁铁矿膜的方法。 1。根据上一年研究的结果，制作了NIZN铁氧体细颗粒的膜，并在悬浮液的pH值期间获得了12μm的薄膜厚度，并且电极之间的施加电压为1.2 V，并且在30分钟的胶片形成时间内获得了30分钟的胶片厚度，可在30分钟的胶片中获得12μm的高速胶片，以供高速摄影，以允许高速摄影。此外，当评估这部电影的高频渗透性特征时，胶片在膜形成时不受控制并且是各向同性的，因此铁磁共振频率约为1GHz，磁性渗透性μ'的实际部分是在磁性频率上的实际部分，以提高摄影范围。各向异性可以控制。使用永久磁铁应用磁场，并使用今年购买的高斯仪表将磁场强度调节到60-300G（高斯）的范围。但是，当使用永久磁体施加磁场时，磁场梯度很大，并且在沉积基板附近表现出高磁性特性的细颗粒会减少，从而使很难赋予大型各向异性。该膜的共振频率增加到2GHz，但μ''降至5以下。这被认为是因为由于缺乏高质量的细颗粒而饱和磁化量降低了。 3。形成导电薄膜（ITO）的印刷电路板和基材沉积精细的铁氧体颗粒。尽管电泳沉积过程中悬浮液的pH值取决于基板上的导电层类型，但通常可以形成膜。但是，已经证实，膜的一些干燥表面具有数μm宽的细裂纹，并且有必要研究膜形成条件，例如导电层的厚度和膜形成过程中的电流密度，在许多情况下。从以上，制定了2005年的所有研究计划，并实现了上述结果。此外，其中一些结果已在学术杂志“ IEEE TRAN.MAGN”中发表。在第11节中进行了描述。