Developments of GHz and heterro-amorphous inductor core materials for integrated circuit

GHz及集成电路用异质非晶电感磁芯材料的进展

基本信息

  • 批准号:
    15560285
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.3万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2003
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2003 至 2005
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

(CoFeB)-(SiO_2), (CoFe)-(SiO_2) and CoFeB films were fabricated by synchronous triple rf magnetron sputtering while rotating a cylindrical electrode. Three types of films for rf application in the range over 1 GHz were obtained, and their permeability characteristics and micro-structures were investigated.The films exhibited large anisotropy fields H_k in the range from 40 to 550 Oe, and high ferromagnetic resonance (FMR) frequencies of 1.6-6.0 GHz in permeability characteristics. They also exhibited amorphous and nano-crystal structures, which led to good soft magnetic properties with electrical resistivities ρ of 400-100,000 μΩcm and saturation magnetizations 4ΠM_s of 6.5-20 kG. The larger H_k and higher resistivities obtained were effective for attaining the higher-frequency characteristics with lower losses for magnetic devices.A hybrid thin film coplanar transmission-line with a CoFeB metallic magnetic film was fabricated and estimated. The fabricated devices consisted of top and bottom 3μm-thick aluminum conductor layers and inner (0.5 μm-thick Polyimide) / (0.5 μm-thick CoFeB) / (0.5 μm-thick Polyimide) trilayer. The top conductor layer consisted of a signal line and ground planes on the same plane. The CoFeB metallic magnetic film, exposed to the same thermal process of the device fabrication, had a static relative permeability of about 180 and FMR frequency of about 3.7 GHz. The Polyimide had a relative permittivity of about 3.5.As a result, a wavelength shortening ratio of the fabricated device was about 0.19 at a few gigahertzes in frequency. The line length and the insertion loss of a quarter-wavelength device were estimated to be about 7 mm and about 2.9 dB at 2 GHz.
通过同步三重射频磁控溅射同时旋转圆柱形电极制备了(CoFeB)-(SiO_2)、(CoFe)-(SiO_2)和CoFeB薄膜,并获得了三种适用于1 GHz以上射频应用的薄膜。研究了渗透特性和微观结构。薄膜表现出大的各向异性场 H_k 在 40 至 550 Oe 范围内,并且具有高它们的磁导率特性具有 1.6-6.0 GHz 的铁磁共振 (FMR) 频率,并且具有非晶和纳米晶体结构,从而具有良好的软磁性能,电阻率 ρ 为 400-100,000 μΩcm,饱和磁化强度 4ΠM_s 为 6.5-20 kG。获得的较大的H_k和较高的电阻率对于获得较高的频率是有效的。制造并评估了具有 CoFeB 金属磁性薄膜的混合薄膜共面传输线。所制造的器件由顶部和底部 3μm 厚的铝导体层和内部(0.5μm 厚的聚酰亚胺)组成。 /(0.5 μm 厚的 CoFeB)/(0.5 μm 厚的聚酰亚胺)三层。顶部导体层由同一平面上的信号线和接地层组成。经受与器件制造相同的热处理的CoFeB金属磁性膜具有约180的静态相对磁导率和约3.7GHz的FMR频率。聚酰亚胺具有约3.5的相对介电常数。因此,波长缩短比。所制造的器件的频率在几千兆赫时约为 0.19。四分之一波长器件的线路长度和插入损耗估计约为 7 毫米。 2 GHz 时为 2.9 dB。

项目成果

期刊论文数量(76)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
CeFeBアモルファス金属磁性膜を用いたGHz帯用薄膜コプレーナ伝送線路の試作
使用 CeFeB 非晶金属磁性薄膜的 GHz 频段薄膜共面传输线原型
  • DOI:
  • 发表时间:
    2004
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    M.Munakata (業績5);S.I.Aoqui;中山 英俊;M.Munakata;S.I.Aoqui;H.Nakayama;M.Munakata;S.I.Aoqui;中山 英俊;K.Takizawa;H.Nakayama;M.Munakata(業績5);中山 英俊 (業績2-1)
  • 通讯作者:
    中山 英俊 (業績2-1)
高飽和磁化bcc-FeCo相を含む(FeCo)-(SiO_2)膜の磁気特性とGHz帯高周波透磁率特性
高饱和磁化bcc-FeCo相(FeCo)-(SiO_2)薄膜的磁性能及GHz频段高频导磁性能
  • DOI:
  • 发表时间:
    2004
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    M.Munakata (業績5);S.I.Aoqui;中山 英俊;M.Munakata;S.I.Aoqui;H.Nakayama;M.Munakata;S.I.Aoqui;中山 英俊;K.Takizawa;H.Nakayama;M.Munakata(業績5);中山 英俊 (業績2-1);宗像 誠 (業績2-2);並河 雅志 (業績3);荒木 和幸 (業績4);河本 修;H.Nakayama;M.Munakata;M.Namikawa;K.Araki;O.Kohmoto;宗像 誠(業績1);中山 英俊(業績2);並河 雅志(業績3)
  • 通讯作者:
    並河 雅志(業績3)
スリットパターン化したCoFe系高飽和磁化膜の磁気特性と異方性磁界制御
狭缝CoFe基高饱和磁化薄膜的磁性能及各向异性磁场控制
  • DOI:
  • 发表时间:
    2004
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    M.Munakata (業績5);S.I.Aoqui;中山 英俊;M.Munakata;S.I.Aoqui;H.Nakayama;M.Munakata;S.I.Aoqui;中山 英俊;K.Takizawa;H.Nakayama;M.Munakata(業績5);中山 英俊 (業績2-1);宗像 誠 (業績2-2);並河 雅志 (業績3);荒木 和幸 (業績4)
  • 通讯作者:
    荒木 和幸 (業績4)
Uniaxial anisotropy field and crystalline structures of (CoFe)-(Si0_2) magnetic thin film for operating in the GHz frequency
GHz频率下工作的(CoFe)-(SiO_2)磁性薄膜的单轴各向异性场和晶体结构
高飽和磁化bcc・FeCo相を含む(FeCo)-(SiO_2)膜の磁気特性とGHz帯高周波透磁率特性
含高饱和磁化强度bcc/FeCo相的(FeCo)-(SiO_2)薄膜的磁性能及GHz频段高频磁导率性能
  • DOI:
  • 发表时间:
    2004
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    M.Munakata (業績5);S.I.Aoqui;中山 英俊;M.Munakata;S.I.Aoqui;H.Nakayama;M.Munakata;S.I.Aoqui;中山 英俊;K.Takizawa;H.Nakayama;M.Munakata(業績5);中山 英俊 (業績2-1);宗像 誠 (業績2-2);並河 雅志 (業績3)
  • 通讯作者:
    並河 雅志 (業績3)
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