大強度紫外線源を用いた光電離プラズマの研究

高强度紫外光源光离子化等离子体的研究

基本信息

  • 批准号:
    05680396
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.09万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    1993
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1993 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

本研究の目的はプラズマを紫外線源として用い,光電離プラズマを発生させその物理過程を明らかにすることである。プラズマを紫外線源とするためには,電子密度1×10^<19>m^<-3>電子温度10eV以上のプラズマが必要となるが,従来のプラズマ生成法ではその実現は困難であった。本研究では,電子サイクロトロン波を採用して高密度プラズマを生成し,プラズマ電流によるジュール加熱入力も併用する方式を目指した。そのため,特殊な構造のマイクロ波ランチャーが必要で,その開発を行った。新しいランチャーを用いてプラズマ発生実験を行ない,高密度プラズマ(1×10^<19>m^<-3>)が生成される事を確認した。また,プラズマ中に電流を流す実験も行い,20A程度まで通電できることを確認した。現在,100A通電のために改良を行っている。
这项研究的目的是使用等离子体作为紫外线来产生光电等离子体并阐明其物理过程。为了使等离子体成为紫外线,需要电子密度为1×10^<19> m^<-3>电子温度为10 eV或更高的等离子体,但是使用常规的等离子生成方法很难实现。在这项研究中,我们旨在使用电子回旋体波来产生高密度等离子体,并使用血浆电流使用焦耳加热输入。因此,需要一个具有特殊结构的微波发射器,并进行了开发。使用新的发射器进行了血浆生成实验,以确认产生高密度血浆(1×10^<19> m^<-3>)。我们还进行了一个实验,其中电流通过了血浆,并确认它的电源可以供应到约20A。当前,正在改进100A的能量。

项目成果

期刊论文数量(4)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
H.Shoyama: "High Density ECW Plasma Production with Counter-Injection of Microwaves" Proc.2nd Int.Conf.on Reactive Plasmas and 11th Symposium on Plasma Processing. 347-350 (1994)
H.Shoyama:“微波反向注入的高密度 ECW 等离子体生产”Proc.2nd Int.Conf.on Reactive Plasmas 和第 11 届等离子体处理研讨会。
  • DOI:
  • 发表时间:
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  • 作者:
  • 通讯作者:
M.Tanaka: "Multi-Plate Microwave Launcher for Producing High Density ECR Plasmas" Proc.2nd Int.Conf.on Reactive Plasmas and 11th Symposium on Plasma Processing. 343-346 (1994)
M.Tanaka:“用于生产高密度 ECR 等离子体的多板微波发射器”Proc.2nd Int.Conf.on Reactive Plasmas 和第 11 届等离子体处理研讨会。
  • DOI:
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