Structure analysis of ferroelectric domain walls using coherent convergent-beam electron diffraction
使用相干会聚束电子衍射分析铁电畴壁的结构
基本信息
- 批准号:25630272
- 负责人:
- 金额:$ 2.58万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
- 财政年份:2013
- 资助国家:日本
- 起止时间:2013-04-01 至 2015-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(11)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
収束電子回折によるLiOsO3の静電ポテンシャル分布解析
会聚电子衍射分析 LiOsO3 静电势分布
- DOI:
- 发表时间:2014
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Daiki Mabuchi;Shin-ichi Ogino;Yoshinori Sato;Takashi Itoh;Kazuyuki Tohji;津田健治
- 通讯作者:津田健治
High-quality AlN layer homoepitaxially grown on nitrided a-plane sapphire
在氮化 a 面蓝宝石上同质外延生长高质量 AlN 层
- DOI:10.7567/apex.6.091001
- 发表时间:2013
- 期刊:
- 影响因子:2.3
- 作者:Masayoshi Adachi;Kenji Tsuda;Masashi Sugiyama;Junji Iida;Akikazu Tanaka;and Hiroyuki Fukuyama
- 通讯作者:and Hiroyuki Fukuyama
収束電子回折法によるLiOsO3の静電ポテンシャル分布解
采用会聚电子衍射法求解 LiOsO3 静电势分布
- DOI:
- 发表时间:2013
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Kohei Bushimata;Takashi Itoh;Kazuyuki Tohji;Yoshinori Sato;渡邊郁磨,津田健治,Youguo Shi,Yanfeng Guo,山浦一成
- 通讯作者:渡邊郁磨,津田健治,Youguo Shi,Yanfeng Guo,山浦一成
やさしい電子回折と初等結晶学 -- 電子回折図形の指数付け,収束電子回折の使い方 -- 改訂新版
简易电子衍射和基本晶体学 - 电子衍射图的索引,如何使用会聚电子衍射 - 修订后的新版本
- DOI:
- 发表时间:2014
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:田中通義;寺内正己;津田健治
- 通讯作者:津田健治
Study of nanoscale local structural fluctuations in ferroelectrics using convergent-beam electron diffraction
利用会聚束电子衍射研究铁电体纳米级局部结构涨落
- DOI:
- 发表时间:2014
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T. Ikeda;K. Eriguchi;A. Tanihara;S. Kasai;K. Ono;Kenji Tsuda
- 通讯作者:Kenji Tsuda
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Electrostatic potential analysis of ferroelectric domains using convergent-beam electron diffraction
使用会聚束电子衍射对铁电域进行静电势分析
- 批准号:
20340070 - 财政年份:2008
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