Highly efficient slurryless finishing of difficult-to-polish materials by active controlled electrochemical mechanical polishing

通过主动控制电化学机械抛光对难抛光材料进行高效无浆精加工

基本信息

批准号：
18K18810
负责人：
Yamamura Kazuya
金额：
$ 4.08万
依托单位：
Osaka University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
财政年份：
2018
资助国家：
日本
起止时间：
2018-06-29 至 2020-03-31
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-18K18810/
关键词：
電気化学機械研磨スラリーレス難加工材料 SiC シリコンカーバイド GaN

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（17）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Preliminary study on slurryless electrochemical mechanical polishing of sliced 4H-SiC (0001) surface

4H-SiC(0001)切片表面无浆电化学机械抛光初步研究

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
Xu Yang;X. Yang;K. Kawai;K. Arima;K. Yamamura
通讯作者：
K. Yamamura

固定砥粒を用いた4H-SiC (0001)表面の電気化学機械研磨

使用固定磨粒对 4H-SiC (0001) 表面进行电化学机械抛光

DOI：
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
楊旭;川合健太郎;有馬健太;山村和也
通讯作者：
山村和也

Investigation of anodic oxidation mechanism of 4H-SiC (0001) for electrochemical mechanical polishing

DOI：
10.1016/j.electacta.2018.03.184
发表时间：
2018-05-01
期刊：
ELECTROCHIMICA ACTA
影响因子：
6.6
作者：
Yang, Xu;Sun, Rongyan;Yamamura, Kazuya
通讯作者：
Yamamura, Kazuya

Surface Modification and Microstructuring of 4H-SiC(0001) by Anodic Oxidation with Sodium Chloride Aqueous Solution

DOI：
10.1021/acsami.8b19557
发表时间：
2019-01-16
期刊：
ACS APPLIED MATERIALS & INTERFACES
影响因子：
9.5
作者：
Yang, Xu;Sun, Rongyan;Yamamura, Kazuya
通讯作者：
Yamamura, Kazuya

Ultrasonic-assisted anodic oxidation of 4H-SiC (0001) surface

DOI：
10.1016/j.elecom.2019.01.012
发表时间：
2019-03-01
期刊：
ELECTROCHEMISTRY COMMUNICATIONS
影响因子：
5.4
作者：
Yang, Xiaozhe;Yang, Xu;Yamamura, Kazuya
通讯作者：
Yamamura, Kazuya

DOI：
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作者：
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Yamamura Kazuya其他文献

ACT-I「情報と未来」への期待

对ACT-I“信息与未来”的期望

DOI：
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
0
作者：
Ohkubo Yuji;Aoki Tomonori;Seino Satoshi;Mori Osamu;Ito Issaku;Endo Katsuyoshi;Yamamura Kazuya;湊真一
通讯作者：
湊真一

Novel highly-efficient and dress-free polishing technique with plasma-assisted surface modification and dressing

新型高效免修整抛光技术，采用等离子体辅助表面改性和修整

DOI：
10.1016/j.precisioneng.2021.05.003
发表时间：
2021
期刊：
Precision Engineering
影响因子：
0
作者：
Sun Rongyan;Nozoe Atsunori;Nagahashi Junji;Arima Kenta;Kawai Kentaro;Yamamura Kazuya
通讯作者：
Yamamura Kazuya

Improved Catalytic Durability of Pt-Particle/ABS for H2O2 Decomposition in Contact Lens Cleaning

提高 Pt 颗粒/ABS 在隐形眼镜清洁中 H2O2 分解的催化耐久性

DOI：
10.3390/nano9030342
发表时间：
2019
期刊：
Nanomaterials
影响因子：
5.3
作者：
Ohkubo Yuji;Aoki Tomonori;Seino Satoshi;Mori Osamu;Ito Issaku;Endo Katsuyoshi;Yamamura Kazuya
通讯作者：
Yamamura Kazuya

Effects of polishing pressure and sliding speed on the material removal mechanism of single crystal diamond in plasma-assisted polishing

等离子辅助抛光中抛光压力和滑动速度对单晶金刚石材料去除机理的影响

DOI：
10.1016/j.diamond.2022.108899
发表时间：
2022
期刊：
Diamond and Related Materials
影响因子：
4.1
作者：
Liu Nian;Sugimoto Kentaro;Yoshitaka Naoya;Yamada Hideaki;Sun Rongyan;Kawai Kentaro;Arima Kenta;Yamamura Kazuya
通讯作者：
Yamamura Kazuya

巻頭言．心理学の再現可能性：我々はどこから来たのか　我々は何者か　我々はどこへ行くのか ─ 特集号の刊行に寄せて ─

介绍。

DOI：
发表时间：
2016
期刊：
心理学評論
影响因子：
0
作者：
Ohkubo Yuji;Aoki Tomonori;Seino Satoshi;Mori Osamu;Ito Issaku;Endo Katsuyoshi;Yamamura Kazuya;湊真一;友永雅己・三浦麻子・針生悦子
通讯作者：
友永雅己・三浦麻子・針生悦子