Development of iron oxide thin films with specific hetero-structure self-formed and expression of photocatalytic function

自形成特定异质结构氧化铁薄膜的开发及其光催化功能的表达

基本信息

  • 批准号:
    18K04761
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.75万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2018
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2018-04-01 至 2021-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(20)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
公益財団法人電磁材料研究所
电磁材料研究所
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
複合鉄酸化物焼結体および複合鉄酸化物粉末ならびにこれらの製造方法
复合氧化铁烧结体、复合氧化铁粉末及其制造方法
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
スパッタリング法によるGe添加ZnO薄膜の作製
溅射法制备Ge掺杂ZnO薄膜
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    荒木 航;田邉 匡生;阿部 世嗣;小山 裕;阿部世嗣;Seishi Abe;Seishi Abe;Seishi Abe;阿部世嗣
  • 通讯作者:
    阿部世嗣
金属元素添加α-Fe2O3 のテラヘルツ帯屈折率測定
金属元素掺杂α-Fe2O3的太赫兹波段折射率测量
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Shinoda Kozo;Abe Seishi;Sugiyama Kazumasa;Waseda Yoshio;Seishi Abe;阿部世嗣;阿部世嗣;荒木航,田邉匡生,阿部世嗣,小山裕,超唐,美野輪光樹
  • 通讯作者:
    荒木航,田邉匡生,阿部世嗣,小山裕,超唐,美野輪光樹
マグネタイト薄膜の耐酸化性とGe添加濃度の関係
磁铁矿薄膜的抗氧化性能与Ge浓度的关系
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Shinoda Kozo;Abe Seishi;Sugiyama Kazumasa;Waseda Yoshio;Seishi Abe;阿部世嗣;阿部世嗣
  • 通讯作者:
    阿部世嗣
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

ABE Seishi其他文献

ABE Seishi的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

{{ truncateString('ABE Seishi', 18)}}的其他基金

Development of a new composite material for quantum dot solar cell
新型量子点太阳能电池复合材料的研制
  • 批准号:
    21360346
  • 财政年份:
    2009
  • 资助金额:
    $ 2.75万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Development of next generation inorganic electroluminescent thin film materials with nanogranular structure
下一代纳米颗粒结构无机电致发光薄膜材料的开发
  • 批准号:
    18360338
  • 财政年份:
    2006
  • 资助金额:
    $ 2.75万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)

相似国自然基金

反常HfO2基铁电薄膜微束离子精准调控亚稳相的研究
  • 批准号:
    52302151
  • 批准年份:
    2023
  • 资助金额:
    30 万元
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
基于氮化铝绝缘层的多晶铝-锡共掺杂氧化铟薄膜晶体管研究
  • 批准号:
    62304090
  • 批准年份:
    2023
  • 资助金额:
    30 万元
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
表面等离激元增强的深紫外透明导电复合薄膜的光电性能调控及器件应用
  • 批准号:
    62364014
  • 批准年份:
    2023
  • 资助金额:
    35 万元
  • 项目类别:
    地区科学基金项目
基于协同耦合界面组装策略的手性碳硅异质薄膜构筑及手性筛分性能研究
  • 批准号:
    22308127
  • 批准年份:
    2023
  • 资助金额:
    30 万元
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
空位缺陷调控的氮掺杂ZnO薄膜中受主形成机制与导电特性研究
  • 批准号:
    12304102
  • 批准年份:
    2023
  • 资助金额:
    30 万元
  • 项目类别:
    青年科学基金项目

相似海外基金

高速C60イオンビームによる有機分子薄膜のスパッタリング過程の解明
使用高速 C60 离子束阐明有机分子薄膜的溅射过程
  • 批准号:
    24K15594
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 2.75万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Preparation of functional materials via highly efficient and sustainable sputtering system using multi pulse plasma
使用多脉冲等离子体通过高效且可持续的溅射系统制备功能材料
  • 批准号:
    23K03817
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 2.75万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
タリウム系トポロジカル絶縁体の薄膜化によるトポロジカル輸送現象の探究
通过减薄铊基拓扑绝缘体探索拓扑输运现象
  • 批准号:
    21K03434
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 2.75万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Frontier of the compound thin-film solar cells with homojunction SnS
同质结SnS化合物薄膜太阳能电池研究前沿
  • 批准号:
    21H01613
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 2.75万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Improvement For Powder Sputtering Process Applicable For New Material Development
粉末溅射工艺的改进适用于新材料开发
  • 批准号:
    20K03921
  • 财政年份:
    2020
  • 资助金额:
    $ 2.75万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了