Elucidation of deprotonation induced mechanism in nano-and microfabrication process using ionizing radiations and its applications

阐明电离辐射纳米和微加工过程中去质子化诱导机制及其应用

基本信息

批准号：
19K05330
负责人：
Okamoto Kazumasa
金额：
$ 2.58万
依托单位：
Osaka University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2019
资助国家：
日本
起止时间：
2019-04-01 至 2022-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（11）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

大阪大学産業科学研究所　量子ビーム物質科学研究分野　ホームページ

大阪大学科学产业研究所量子束材料科学研究部主页

DOI：
发表时间：
期刊：
影响因子：
0
作者：
通讯作者：

Sensitivity enhancement of chemically amplified EUV resists by adding acid-generating promoters

通过添加产酸促进剂增强化学放大 EUV 光刻胶的灵敏度

DOI：
10.7567/jjap.56.06gd01
发表时间：
2017-05-12
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子：
1.5
作者：
S. Fujii;K. Okamoto;Hiroki Yamamoto;T. Kozawa;T. Itani
通讯作者：
T. Itani

Dependence of dose rate on the sensitivity of the resist under ultra-high flux extreme ultraviolet (EUV) pulse irradiation

超高通量极紫外 (EUV) 脉冲照射下剂量率对光刻胶灵敏度的依赖性

DOI：
10.35848/1882-0786/abfca3
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
2.3
作者：
Okamoto Kazumasa; Kawai Shunpei; Ikari Yuta; Hori Shigeo; Konda Akihiro; Ueno Koki; Arai Yohei; Ishino Masahiko; Thanhhung Dinh; Nishikino Masaharu; Kon Akira; Owada Shigeki; Inubushi Yuichi; Kinoshita Hiroo; Kozawa Takahiro
通讯作者：
Kozawa Takahiro

Sensitivity enhancement of chemically amplified EUV resist by adding diphenyl sulfone derivatives

添加二苯砜衍生物提高化学放大型 EUV 光刻胶的灵敏度

DOI：
10.1117/12.2551865
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
0
作者：
Okamoto Kazumasa;Kawai Shunpei;Kozawa Takahiro
通讯作者：
Kozawa Takahiro

大阪大学産業科学研究所　量子ビーム物質科学研究分野　ホームページ

大阪大学科学产业研究所量子束材料科学研究部主页

DOI：
发表时间：
期刊：
影响因子：
0
作者：
通讯作者：

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Okamoto Kazumasa其他文献

Photo- & radio-chromic iron-doped tungstic acids fabricated via submerged photosynthesis

照片-

DOI：
10.1016/j.optmat.2021.111966
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
3.9
作者：
Murakami Shuntaro;Zhang Lihua;Jeem Melbert;Okamoto Kazumasa;Nakagawa Yuki;Shibayama Tamaki;Ohnuma Masato;Watanabe Seiichi
通讯作者：
Watanabe Seiichi

Dependence of dose rate on the sensitivity of the resist under ultra-high flux extreme ultraviolet (EUV) pulse irradiation

超高通量极紫外 (EUV) 脉冲照射下剂量率对光刻胶灵敏度的依赖性

DOI：
10.35848/1882-0786/abfca3
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
2.3
作者：
Okamoto Kazumasa; Kawai Shunpei; Ikari Yuta; Hori Shigeo; Konda Akihiro; Ueno Koki; Arai Yohei; Ishino Masahiko; Thanhhung Dinh; Nishikino Masaharu; Kon Akira; Owada Shigeki; Inubushi Yuichi; Kinoshita Hiroo; Kozawa Takahiro
通讯作者：
Kozawa Takahiro

Resist thickness dependence of line width roughness of chemically amplified resists used for electron beam lithography

用于电子束光刻的化学放大抗蚀剂的线宽粗糙度与抗蚀剂厚度的关系

DOI：
10.35848/1347-4065/ab9fde
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
1.5
作者：
Maeda Naoki;Konda Akihiro;Okamoto Kazumasa;Kozawa Takahiro;Tamura Takao
通讯作者：
Tamura Takao

Heating effect of the radiation chemistry of polyhydroxystyrene-type chemically amplified resists

聚羟基苯乙烯型化学放大型光刻胶的辐射化学热效应

DOI：
10.35848/1347-4065/aba7d7
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
1.5
作者：
Ikari Yuta;Okamoto Kazumasa;Konda Akihiro;Kozawa Takahiro;Tamura Takao
通讯作者：
Tamura Takao

Fabrication of color-toned micro/nanopattern surface by submerged photosynthesis method

浸没光合作用法制备彩色微纳图案表面

DOI：
10.1016/j.mee.2022.111727
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
2.3
作者：
Tsukamura Jumpei;Takahashi Yuki;Zhang Lihua;Jeem Melbert;Okamoto Kazumasa;Watanabe Seiichi
通讯作者：
Watanabe Seiichi