Spatial Distribution Analysis of Photo Resist Using Resonant Soft X-ray Reflectmetry and Scattering methods

使用共振软 X 射线反射测量和散射方法分析光刻胶的空间分布

基本信息

  • 批准号：
    19K12644
  • 负责人：
    Harada Tetsuo
  • 金额：
    $ 2.75万
  • 依托单位：
    University of Hyogo
  • 依托单位国家：
    日本
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份：
    2019
  • 资助国家：
    日本
  • 起止时间：
    2019-04-01 至 2022-03-31
  • 项目状态：
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（17）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Removal of Surface Contamination by Atomic Hydrogen Annealing
通过原子氢退火去除表面污染
  • DOI：
    10.2494/photopolymer.33.419
  • 发表时间：
    2020
  • 期刊：
    Journal of Photopolymer Science and Technology
  • 影响因子：
    0.8
  • 作者：
    Heya Akira;Harada Tetsuo;Niibe Masahito;Sumitomo Koji;Watanabe Takeo
  • 通讯作者：
    Watanabe Takeo
軟Ｘ線共鳴散乱・反射率法による有機材料の構造解析
使用软 X 射线共振散射/反射法分析有机材料的结构
  • DOI：
  • 发表时间：
    2020
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    原田哲男;山川進二;渡邊健夫
  • 通讯作者：
    渡邊健夫
Fundamental research activities on EUV lithography at NewSUBARU synchrotron light facility
NewSUBARU 同步加速器光设施的 EUV 光刻基础研究活动
  • DOI：
    10.1117/12.2600896
  • 发表时间：
    2021
  • 期刊：
    SPIE Proc.
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Watanabe Takeo;Harada T.;Yamakawa S.
  • 通讯作者：
    Yamakawa S.
Resonant Soft X-ray Reflectivity for the Chemical Analysis in Thickness Direction of EUV Resist
用于 EUV 光刻胶厚度方向化学分析的共振软 X 射线反射率
Resonant Soft X-ray Scattering for the Stochastic Origin Analysis in EUV Resist
用于 EUV 抗蚀剂随机原点分析的共振软 X 射线散射
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  • DOI：
    10.1002/tesq.453
  • 发表时间：
    2018
  • 期刊：
    TESOL Quarterly
  • 影响因子：
    3.2
  • 作者：
    Uchihara Takumi;Harada Tetsuo
  • 通讯作者：
    Harada Tetsuo
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氢气氛下高功率EUV辐照工具的开发
  • DOI：
    10.35848/1347-4065/ac15ef
  • 发表时间：
    2021
  • 期刊：
    Japanese Journal of Applied Physics
  • 影响因子：
    1.5
  • 作者：
    Harada Tetsuo;Yamakawa Shinji;Toyoda Mitsunori;Watanabe Takeo
  • 通讯作者：
    Watanabe Takeo
Plasmon-induced Hot Carrier Chemistry
等离激元诱导热载流子化学
  • DOI：
  • 发表时间：
    2019
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Nagata Yutaka;Harada Tetsuo;Watanabe Takeo;Kinoshita Hiroo;Midorikawa Katsumi;T. Teranishi
  • 通讯作者：
    T. Teranishi
At wavelength coherent scatterometry microscope using high-order harmonics for EUV mask inspection
使用高次谐波进行 EUV 掩模检查的波长相干散射显微镜
  • DOI：
    10.1088/2631-7990/ab3b4e
  • 发表时间：
    2019
  • 期刊：
    International Journal of Extreme Manufacturing
  • 影响因子：
    14.7
  • 作者：
    Nagata Yutaka;Harada Tetsuo;Watanabe Takeo;Kinoshita Hiroo;Midorikawa Katsumi
  • 通讯作者：
    Midorikawa Katsumi

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  • 发表时间：
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  • 期刊：
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  • 作者：
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    2016
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    $ 2.75万
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)

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    2023
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    $ 2.75万
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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