Investigation and controlling of a quasi-dopant effect at a ferroelectric charged surface and interface

铁电带电表面和界面的准掺杂效应的研究和控制

基本信息

  • 批准号:
    19K04495
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.83万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2019
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2019-04-01 至 2022-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(40)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Introduction of charged domain walls into BiFeO3 thin films using a pit-patterned SrTiO3 (001) substrate
使用凹坑图案 SrTiO3 (001) 基板将带电畴壁引入 BiFeO3 薄膜
  • DOI:
    10.7567/1347-4065/ab3897
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    S. Nakashima;S. Kimura;Y. Kurokawa;H. Fujisawa;and M. Shimizu
  • 通讯作者:
    and M. Shimizu
強誘電体BiFeO3薄膜へのMnドープが局所構造および電子状態へ与える影響
Mn掺杂对铁电BiFeO3薄膜局域结构和电子态的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    加藤 廉;中嶋 誠二;藤沢 浩訓;木村 耕治;八方 直久;アン アルトニケビンロケロ;加藤 達也;山本 裕太;林 好一;中嶋誠二
  • 通讯作者:
    中嶋誠二
Evidence of Fermi level tuning in multiferroic BiFeO3 thin films by Mn doping for high photovoltage generation
通过 Mn 掺杂调节多铁性 BiFeO3 薄膜的费米能级以产生高光电压的证据
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Junta Igarashi;Kyota Watanabe;Butsurin Jinnai;Shunsuke Fukami;and Hideo Ohno;S. Nakashima and H. Fujisawa
  • 通讯作者:
    S. Nakashima and H. Fujisawa
強誘電体薄膜におけるバルク光起電力効果
铁电薄膜中的体光伏效应
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    中嶋 誠二;木村 怜志;岩田 侑樹; 藤沢 浩訓;小山手 厚人 藤沢 浩訓,中嶋 誠二;柴崎一郎;中嶋 誠二,藤沢 浩訓
  • 通讯作者:
    中嶋 誠二,藤沢 浩訓
Bulk Photovoltaic Effects in BiFeO3 Planar Capacitors
BiFeO3 平面电容器的体光伏效应
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Seiji Nakashima;Ren Kato;Hironoro Fujisawa
  • 通讯作者:
    Hironoro Fujisawa
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  • 通讯作者:
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  • 发表时间:
    2022
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    山岸英樹
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    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Nakashima Seiji;Seto Shota;Kurokawa Yuta;Fujisawa Hironori;Shimizu Masaru
  • 通讯作者:
    Shimizu Masaru
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  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Shimazaki Yoshihiro;Sasaki Akihiro;Hayashi Ryosuke;Mori;Yasushi;Nakashima Seiji;Machino Atsushi;Abe Yoshikazu
  • 通讯作者:
    Abe Yoshikazu
Self-regulation of Bi/(Bi+Fe) ratio in metalorganic chemical vapor deposition of BiFeO3 thin films
BiFeO3 薄膜金属有机化学气相沉积中 Bi/(Bi Fe) 比例的自调节
  • DOI:
    10.7567/jjap.56.10pf05
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Fujisawa Hironori;Yoshimura Nao;Nakashima Seiji;Shimizu Masaru
  • 通讯作者:
    Shimizu Masaru

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  • 资助金额:
    $ 2.83万
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  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 2.83万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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