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高性能三次元素子を目指したALD法による金属酸化物半導体の薄膜形成技術の研究
针对高性能三次元元素的ALD法金属氧化物半导体薄膜形成技术研究
基本信息
- 批准号：23K23226
- 负责人：
- 金额：$ 3.41万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份：2024
- 资助国家：日本
- 起止时间：2024-02-28 至 2025-03-31
- 项目状态：未结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
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