Development of SiC hybrid integrated circuits operational under harsh environment
恶劣环境下工作的SiC混合集成电路的开发
基本信息
- 批准号:19K23515
- 负责人:
- 金额:$ 1.83万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
- 财政年份:2019
- 资助国家:日本
- 起止时间:2019-08-30 至 2021-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要

暂无数据
项目成果
期刊论文数量(7)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Experimental Study on Short-Channel Effects in Side-Gate SiC JFETs
侧栅 SiC JFET 短沟道效应的实验研究
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Masashi Nakajima;Q. Jin;Mitsuaki Kaneko;Tsunenobu Kimoto
- 通讯作者:Tsunenobu Kimoto
Breakdown Characteristics of Lateral PIN Diodes Fully Fabricated by Ion Implantation into HTCVD-Grown High-Purity Semi-Insulating SiC Substrate
HTCVD 生长的高纯半绝缘 SiC 衬底完全离子注入横向 PIN 二极管的击穿特性
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Mitsuaki Kaneko;Tsibizov Alexander;Tsunenobu Kimoto;Ulrike Grossner
- 通讯作者:Ulrike Grossner
Lateral spreads of Al and P atoms implanted into a high-purity semi-insulating SiC substrate
注入高纯半绝缘 SiC 衬底中的 Al 和 P 原子的横向扩散
- DOI:
- 发表时间:2020
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Qimin Jin;Masashi Nakajima;Mitsuaki Kaneko;Tsunenobu Kimoto
- 通讯作者:Tsunenobu Kimoto
Normally-off 400 °C Operation of n- and p-JFETs With a Side-Gate Structure Fabricated by Ion Implantation Into a High-Purity Semi-Insulating SiC Substrate
- DOI:10.1109/led.2019.2910598
- 发表时间:2019-06-01
- 期刊:
- 影响因子:4.9
- 作者:Nakajima, M.;Kaneko, M.;Kimoto, T.
- 通讯作者:Kimoto, T.
Impacts of Channel Length on Electrical Characteristics in Side-Gate SiC JFETs
沟道长度对侧栅 SiC JFET 电气特性的影响
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Masashi Nakajima;Q. Jin;Mitsuaki Kaneko;Tsunenobu Kimoto
- 通讯作者:Tsunenobu Kimoto
共 7 条
- 1
- 2
Kaneko Mitsuaki其他文献
Impact of the split-off band on the tunneling current at metal/heavily-doped p-type SiC Schottky interfaces
分裂能带对金属/重掺杂p型SiC肖特基界面隧道电流的影响
- DOI:10.35848/1882-0786/acc30d10.35848/1882-0786/acc30d
- 发表时间:20232023
- 期刊:
- 影响因子:2.3
- 作者:Kitawaki Takeaki;Hara Masahiro;Tanaka Hajime;Kaneko Mitsuaki;Kimoto TsunenobuKitawaki Takeaki;Hara Masahiro;Tanaka Hajime;Kaneko Mitsuaki;Kimoto Tsunenobu
- 通讯作者:Kimoto TsunenobuKimoto Tsunenobu
Physical properties of sulfur double donors in 4H-SiC introduced by ion implantation
离子注入引入的4H-SiC中硫双给体的物理性质
- DOI:10.35848/1347-4065/acb30910.35848/1347-4065/acb309
- 发表时间:20232023
- 期刊:
- 影响因子:1.5
- 作者:Matsuoka Taiga;Kaneko Mitsuaki;Kimoto TsunenobuMatsuoka Taiga;Kaneko Mitsuaki;Kimoto Tsunenobu
- 通讯作者:Kimoto TsunenobuKimoto Tsunenobu
Enhanced tunneling current and low contact resistivity at Mg contacts on heavily phosphorus-ion-implanted SiC
大量磷离子注入的 SiC 上的镁接触处增强了隧道电流并降低了接触电阻率
- DOI:10.35848/1882-0786/acb98b10.35848/1882-0786/acb98b
- 发表时间:20232023
- 期刊:
- 影响因子:2.3
- 作者:Hara Masahiro;Kaneko Mitsuaki;Kimoto TsunenobuHara Masahiro;Kaneko Mitsuaki;Kimoto Tsunenobu
- 通讯作者:Kimoto TsunenobuKimoto Tsunenobu
高空間分解能な結像型X線顕微鏡のためのin-situ波面計測法の開発
高空间分辨率成像X射线显微镜原位波前测量方法的发展
- DOI:
- 发表时间:20222022
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Matsuoka Taiga;Kaneko Mitsuaki;Kimoto Tsunenobu;田中優人,松山智至,井上陽登,山田純平,香村芳樹,矢橋牧名,表和彦,石川哲也,山内和人Matsuoka Taiga;Kaneko Mitsuaki;Kimoto Tsunenobu;田中優人,松山智至,井上陽登,山田純平,香村芳樹,矢橋牧名,表和彦,石川哲也,山内和人
- 通讯作者:田中優人,松山智至,井上陽登,山田純平,香村芳樹,矢橋牧名,表和彦,石川哲也,山内和人田中優人,松山智至,井上陽登,山田純平,香村芳樹,矢橋牧名,表和彦,石川哲也,山内和人
ブリッジマナイトの変型機構図
桥锰石变形机理图
- DOI:
- 发表时间:20212021
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Tachiki Keita;Kaneko Mitsuaki;Kimoto Tsunenobu;辻野典秀Tachiki Keita;Kaneko Mitsuaki;Kimoto Tsunenobu;辻野典秀
- 通讯作者:辻野典秀辻野典秀
共 10 条
- 1
- 2
相似海外基金
炭化珪素接合型電界効果トランジスタによる相補型論理とアナログ回路の高温動作実証
使用碳化硅结场效应晶体管演示互补逻辑和模拟电路的高温运行
- 批准号:22KJ201322KJ2013
- 财政年份:2023
- 资助金额:$ 1.83万$ 1.83万
- 项目类别:Grant-in-Aid for JSPS FellowsGrant-in-Aid for JSPS Fellows
Logic threshold voltage stabilization in silicon carbide integrated circuits within a wide temperature range
宽温度范围内碳化硅集成电路的逻辑阈值电压稳定性
- 批准号:21K1420921K14209
- 财政年份:2021
- 资助金额:$ 1.83万$ 1.83万
- 项目类别:Grant-in-Aid for Early-Career ScientistsGrant-in-Aid for Early-Career Scientists
Development of an educational resource of integrated circuit fabrication
集成电路制造教育资源的开发
- 批准号:2635021126350211
- 财政年份:2014
- 资助金额:$ 1.83万$ 1.83万
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Development of new diamond electron device using huge polarization charge
利用巨大极化电荷开发新型金刚石电子器件
- 批准号:2524905425249054
- 财政年份:2013
- 资助金额:$ 1.83万$ 1.83万
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
Development of Quantum Integrated Hardwares based on Semiconductor Nanowires
基于半导体纳米线的量子集成硬件的开发
- 批准号:1920603119206031
- 财政年份:2007
- 资助金额:$ 1.83万$ 1.83万
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)Grant-in-Aid for Scientific Research (A)