Fabrication and understanding the interface junction between atomic layers and 3D solids

制造并理解原子层和 3D 实体之间的界面连接

基本信息

  • 批准号:
    19K15393
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.66万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
  • 财政年份:
    2019
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2019-04-01 至 2021-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(15)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
究極的に細い原子細線からなる大面積薄膜を実現 ~次世代の電子・エネルギーデバイス応用に期待~
最终实现由细原子线制成的大面积薄膜 - 有望用于下一代电子和能源设备应用 -
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
導電膜、導電部材及び導電膜の製造方法
导电膜、导电部件以及导电膜的制造方法
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Transition metal nanowires scale up
过渡金属纳米线按比例放大
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Interface Growth of Molybdenum Disulfide
二硫化钼的界面生长
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Hong En Lim;Toshifumi Irisawa;Naoya Okada;Takahiko Endo;Yusuke Nakanishi;Yutaka Maniwa and Yasumitsu Miyata
  • 通讯作者:
    Yutaka Maniwa and Yasumitsu Miyata
Wafer-Scale Growth of One-Dimensional Transition-Metal Telluride Nanowires
一维过渡金属碲化物纳米线的晶圆级生长
  • DOI:
    10.1021/acs.nanolett.0c03456
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    10.8
  • 作者:
    Lim Hong En;Nakanishi Yusuke;Liu Zheng;Pu Jiang;Maruyama Mina;Endo Takahiko;Ando Chisato;Shimizu Hiroshi;Yanagi Kazuhiro;Okada Susumu;Takenobu Taishi;Miyata Yasumitsu
  • 通讯作者:
    Miyata Yasumitsu
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LIM HONGEN其他文献

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