Low-temperature solid-phase crystallization of oxide semiconductors and its application to high-performance flexible devices

氧化物半导体低温固相结晶及其在高性能柔性器件中的应用

基本信息

  • 批准号:
    20K22415
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.83万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
  • 财政年份:
    2020
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2020-09-11 至 2022-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(14)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
曲 勇作, 片岡 大樹, 古田 守, 葉 文昌
黑雄作、片冈大树、古田守、Yo Fuminho
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    小野浩孝;梅原大樹;山田誠;高移動度水素化多結晶In2O3:H 薄膜トランジスタ
  • 通讯作者:
    高移動度水素化多結晶In2O3:H 薄膜トランジスタ
固相結晶化In2O3:Hによる薄膜トランジスタの 高移動度化(>100 cm2V-1s-1)
采用固相结晶In2O3:H的薄膜晶体管的高迁移率(>100 cm2V-1s-1)
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    曲 勇作;片岡 大樹;葉 文昌;古田 守
  • 通讯作者:
    古田 守
第82回応用物理学会秋季学術講演会
第82届日本应用物理学会秋季学术会议
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    横川 凌;渡辺 剛;廣沢 一郎;富田 基裕;渡邉 孝信;小椋 厚志;高移動度水素化In2O3薄膜トランジスタ
  • 通讯作者:
    高移動度水素化In2O3薄膜トランジスタ
IGZOの約10倍の電界効果移動度を持つ酸化物半導体を高知工科大が開発
高知工业大学开发出场效应迁移率约为IGZO 10倍的氧化物半导体
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
水素化In2O3(In2O3:H)固相結晶化温度がキャリア輸送特性に及ぼす影響
氢化In2O3(In2O3:H)固相结晶温度对载流子传输性能的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    曲 勇作;片岡 大樹;古田 守;葉 文昌
  • 通讯作者:
    葉 文昌
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Magari Yusaku其他文献

Bottom gate single crystal Si thin-film transistors fabricated by all sputtering processes
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    2022
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  • 影响因子:
    1.5
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  • 通讯作者:
    Magari Yusaku
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  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
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    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Furuta Mamoru;Magari Yusaku;Hashimoto Shinsuke;Hamada Kenichiro
  • 通讯作者:
    Hamada Kenichiro
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高迁移率透明非晶氧化物半导体薄膜晶体管的热功率调制分析
  • DOI:
    10.1021/acsaelm.2c01210
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    4.7
  • 作者:
    Yang Hui;Zhang Yuqiao;Matsuo Yasutaka;Magari Yusaku;Ohta Hiromichi
  • 通讯作者:
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  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Furuta Mamoru;Koretomo Daichi;Magari Yusaku;Aman S G Mehadi;Higashi Ryunosuke;Hamada Syuhei;Akito Hara and Hiroki Ohsawa
  • 通讯作者:
    Akito Hara and Hiroki Ohsawa

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